Machine de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétron DXJ-1000

de métallisation

Le DXJ-1000 est un système de pulvérisation magnétron à quatre chambres carrées conçu pour le dépôt de couches métalliques (Al, Ag, Ni, Cu, Ti, Pd et autres) sur substrats en silicium cristallin. Il prend en charge la pulvérisation réactive et les procédés de pulvérisation magnétron en atmosphères sous haute et basse vacuum, et convient à la production continue de films pour cellules photovoltaïques en silicium cristallin de grandes dimensions et de différentes spécifications.

Composition

• Le système se compose principalement de : chambre d'injection d'échantillons, chambre de pulvérisation, chambre de fabrication d'échantillons, mécanisme de transport des substrats, système de pompage et de mesure du vide, réseau gaz, système de commande électronique, nettoyage par canon d'ions et contrôle automatique.

Index technique

• Modèle : DXJ-1000
• Chambre principale de pulvérisation : carrée, 1000×700×350 mm
• Chambre d'injection d'échantillons : carrée, 700×700×350 mm
• Configuration du système de vide : pompe mécanique + pompe moléculaire + vanne coulissante
• Pression ultime :
  • Chambre principale : ≤8×10⁻5 Pa (après cuisson et dégazage)
  • Chambre d'injection : ≤6,6×10⁻4 Pa (après cuisson et dégazage)
• Temps de récupération du vide :
  • Chambre principale : atteindre 6,6×10⁻4 Pa en ~40 min (après exposition brève à l'air et purge sèche)
  • Chambre d'injection : atteindre 5×10⁻3 Pa en ~20 min (après exposition brève à l'air et purge sèche)
• Cibles de pulvérisation à aimant permanent : deux cibles carrées (~450×75 mm) ; distance cible‑échantillon ≈80 mm
• Plaque chauffante pour substrat :
  • Dimensions prises en charge : 125×125 mm ou 156×156 mm (4 pièces par charge)
  • Température de chauffe : ambiante jusqu'à ~400°C (±2°C), réglable et contrôlable
• Autre configuration : équipé de nettoyage par canon d'ions et contrôle automatique
• Système de distribution des gaz : régulateurs de débit massique, 3 canaux
• Emprise au sol :
  • Châssis principal : 2655×930 mm²
  • Armoires électriques : 2 × 700×700 mm²

Caractéristiques techniques

• Modèle : DXJ-1000
• Chambre principale : 1000×700×350 mm
• Chambre d'injection : 700×700×350 mm
• Vide : pompe mécanique + pompe moléculaire + vanne coulissante ; pression ultime ≤8×10⁻5 Pa (chambre principale)
• Temps de récupération : chambre principale à 6,6×10⁻4 Pa en ~40 min ; chambre d'injection à 5×10⁻3 Pa en ~20 min
• Cibles magnétron : deux cibles carrées (~450×75 mm), distance cible‑échantillon ≈80 mm
• Plaques substrat : supporte 125×125 mm ou 156×156 mm (4 pièces) ; chauffe jusqu'à ~400°C (±2°C), réglable
• Compléments : nettoyage par canon d'ions, contrôle automatique ; régulateurs de débit massique 3 canaux
• Empreinte : châssis 2655×930 mm² ; armoires électriques : deux ensembles 700×700 mm²