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Machines de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétron
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machine de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétronHELIOS series
... Caractéristiques principales
- PARMS combinant sputtering en moyenne fréquence (MF) et radiofréquence (RF) via deux magnétrons pour dépôts diélectriques depuis targets métalliques à indices élevés et faibles.
- Surveillance
... spécifications techniques
- Modèle : DEIMOS 5500
- Procédé : pulvérisation magnétron / dépôt sous vide pour optique de précision
- Matériaux de dépôt : aluminium
... de pulvérisation magnétron à quatre chambres carrées conçu pour le dépôt de couches métalliques (Al, Ag, Ni, Cu, Ti, Pd et autres) sur substrats en silicium cristallin. Il prend en charge la pulvérisation ...
Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
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Composition
- Le système se compose principalement de la chambre à vide pour pulvérisation, des cibles de pulvérisation magnétron, du plateau rotatif pour substrats refroidi par
Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
... gaz et commande électronique.
Composition
- Chambre principale de pulvérisation pyriforme
- Cibles de pulvérisation magnétron permanentes (5 cibles, Ø60 mm)
- Porte‑substrat
Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
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Composition
- Le système se compose principalement d'une chambre à vide de pulvérisation, de cibles de pulvérisation magnétron, d'une platine chauffante substrat à refroidissement
Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
... 'échantillon fourni ; polarisation négative disponible 0–200 V.
Cibles magnétron et uniformité de dépôt
- Deux cibles magnétron refroidies par eau de 4 pouces installées
Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
...
Principaux composants
- Chambre de pulvérisation sous vide : structure cylindrique à ouverture frontale, dimension Ø450×400 mm
- Cibles de pulvérisation magnétron permanentes
Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
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Denton Vacuum
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Denton Vacuum
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