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Machine d'évaporation sous vide pour canon à électrons DXD-500pour petites tailles de lotspour l'électronique
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Caractéristiques
- Spécifications
- pour canon à électrons, pour petites tailles de lots, pour l'électronique
Description
Présentation
Composition
Index technique
Caractéristiques techniques
- Le système de dépôt par évaporation par faisceau d'électrons DXD-500 est conçu pour la préparation de films électroconducteurs, films semi-conducteurs, films ferroélectriques et films minces optiques. Destiné à la recherche scientifique et à la production en petites séries dans les universités et instituts de recherche.
Composition
- Le système se compose de la chambre à vide d'évaporation, des canons électroniques en E, de l'électrode de chauffage pour évaporation, de la plaque de révolution chauffante pour substrat, du circuit de gaz de travail, du système de pompage, du système de mesure du vide et de contrôle électronique, des machines d'installation et des accessoires associés.
Index technique
- Modèle : DXD-500
- Structure : chambre à vide en caisse en U avec porte avant ; système de pompage à l'arrière.
- Taille interne de la chambre à vide : 500 × 500 × 600 mm3
- Configuration du système de vide : pompe moléculaire composée, pompe mécanique, vanne coulissante
- Pression ultime : ≤ 6,67×10^-5 Pa (après cuisson et dégazage)
- Temps de récupération du vide : atteint 6,67×10^-4 Pa en 45 min (après courte exposition à l'air et injection de chlore sec avant la mise sous vide)
- Source d'évaporation par faisceau électronique : canon électronique en E — tension du pôle positif : 6 kV, 8 kV
- Nombre de sources d'évaporation : 2 sources à faisceau électronique
- Puissance du canon électronique : 0–6 kW réglable
- Source d'évaporation résistive optionnelle : tensions 5 V, 10 V ; courant 300 A ; puissance max 3 kW ; quantité : 1 jeu (configurable)
- Électrode refroidie par eau : 3 pièces (pouvant être disposées en 2 bateaux d'évaporation)
- Manipulation des substrats : accepte des substrats jusqu'à 4 pouces ; température maximale du substrat : 800 °C ± 1 °C ; rotation continue : 5–60 tr/min ; distance ajustable substrat-source : 300–350 mm ; comprend un déflecteur d'échantillon manuel (1 jeu)
- Système de circuit d'air/gaz : débitmètre massique — 1 canal
- Contrôleur d'épaisseur par cristal de quartz : plage d'affichage d'épaisseur : 0–99 999 Å (fourni)
- Emprise au sol / empreinte de la machine : 900 × 800 mm2
- Empreinte de l'armoire de commande électrique : 800 × 800 mm2 (2 jeux)
Caractéristiques techniques
- Modèle : DXD-500
- Taille interne de la chambre : 500 × 500 × 600 mm3
- Vide ultime : ≤ 6,67×10^-5 Pa (après cuisson et dégazage)
- Sources d'évaporation : 2 canons électroniques en E (tension pôle positif 6 kV ou 8 kV) ; source résistive optionnelle (5/10 V, jusqu'à 3 kW)
- Plage de puissance d'évaporation (canon E) : 0–6 kW (réglable)
- Support substrat : jusqu'à 4 pouces, rotation continue 5–60 tr/min, température maximale 800 °C ± 1 °C
- Distance substrat-source : ajustable 300–350 mm
- Pompage : pompe moléculaire composée + pompe mécanique avec vanne coulissante
- Contrôle / surveillance : mesure du vide et système de contrôle électronique ; moniteur d'épaisseur par cristal de quartz
- Empreinte : machine principale 900 × 800 mm2 ; armoires de commande électrique 2 × (800 × 800 mm2)
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.