PrésentationLes alliages molybdène‑tungstène offrent une meilleure stabilité chimique que le molybdène pur lors d'un gravage humide avec des solutions pour ITO, aluminium ou cuivre. La teneur en tungstène est définie selon l'application et peut atteindre jusqu'à 50 % en poids. La production par métallurgie des poudres assure une répartition homogène du tungstène et une microstructure maîtrisée.
Vos avantages- Pureté élevée > 99,97 %
- Densité maximale > 99,95 %
- Microstructure et composition chimique homogènes
Applications et capacités de procédéConçues pour des applications de pulvérisation PVD et compatibles avec des procédés impliquant ITO, aluminium et cuivre. Des essais en laboratoire PVD sont réalisés en conditions pratiques pour développer et analyser les couches. Les procédés de dépôt disponibles incluent PVD, CVD, APS et VPS ; produits typiques : plaques de base pour semi‑conducteurs et anodes X rotatives.
Production et chaîne d'approvisionnementLa fabrication par métallurgie des poudres (mélange/alliage, pressage, frittage, laminage à chaud si applicable) produit des cibles planes et rotatives ainsi que des semi‑finis frittés compacts. Le frittage est l'étape centrale pour obtenir une haute densité. Après usinage, les cibles sont finalisées en ateliers de collage et livrées prêtes à l'installation. La chaîne d'approvisionnement en tungstène et molybdène est intégrée au réseau du groupe.
Caractéristiques techniques / spécifications- Stabilité chimique supérieure au molybdène pur en environnements de gravure humide
- Teneur en tungstène : jusqu'à 50 % en poids (définie par application)
- Pureté : > 99,97 %
- Densité maximale : > 99,95 %
- La métallurgie des poudres garantit une distribution homogène du W
- Disponibles en cibles planes et en configurations rotatives
- Étapes clés : mélange/alliage des poudres, pressage, frittage, (laminage à chaud), usinage, collage/assemblage
- Laboratoire d'application PVD interne pour le développement des revêtements et l'analyse de couches