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Microsoudeuse de puces eutectique NOVA Pro
pour die attachflip-chipà époxy

Microsoudeuse de puces eutectique - NOVA Pro - ASM Assembly Systems - pour die attach / flip-chip / à époxy
Microsoudeuse de puces eutectique - NOVA Pro - ASM Assembly Systems - pour die attach / flip-chip / à époxy
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Caractéristiques

Technologie
flip-chip, à époxy, pour die attach, eutectique, multi-chip, thermique, chip-on-submount
Mode de fonctionnement
automatisé
Applications
pour l'industrie des semi-conducteurs, pour les micro assemblages, pour wafers, pour capteur, MEMS
Autres caractéristiques
de haute précision, configurable, grande surface
Précision du placement

1 µm

Description

Présentation Le NOVA Pro d'ASMPT AMICRA est un système de collage de die destiné aux assemblages flip‑chip et à la pose de composants avec haute précision. Il assure une précision de placement jusqu'à ±1,0 µm @ 3σ tout en permettant des opérations de collage à des températures supérieures à 350°C et sous fortes forces d'assemblage. Le système intègre un alignement dynamique et un chauffage du substrat par laser et prend en charge le thermocompression (TCB) et les processus liés aux TSV.

Applications / Marchés
  • Optoélectronique
  • Photonique sur silicium
  • Assemblage VCSEL et diodes laser
  • Assemblage de photodiodes
  • Fixation d'objectifs avec adhésifs UV
  • Assemblages Active Optical Cable (AOC)
  • Boîtiers de transceiver
  • Flip chip
  • 3D IC / 2.5D IC
  • Thermocompression (TCB)
  • Processus Through‑Silicon Via (TSV)
  • Chip on Chip, Chip on Wafer, Chip on Substrate
  • Multi‑Chip Module (MCM)
  • Collage époxy pour packaging avancé
  • Collage eutectique in‑situ
  • Assemblage de MEMS et capteurs
  • WLP / eWLP


Principales caractéristiques
  • Bonder de die / bonder flip‑chip haute précision
  • Précision de placement : ±1,0 µm @ 3σ
  • Capacité de collage à des températures > 350°C avec fortes forces
  • Temps de cycle < 3 s
  • Concept machine modulaire pour applications micro‑assemblage
  • Collage eutectique via diode‑laser, plaque chauffante, ou estampage/dispensing d'époxy
  • Capacité multi flip‑chip
  • Cartographie de wafers
  • Inspection et mesure post‑collage
  • Contrôle actif de la force de collage
  • Méthode d'alignement dynamique et chauffage du substrat par laser


Autoloading
  • Wafers jusqu'à 12"
  • Wafers 300 mm
  • Wafers substrat 450 mm


Options
  • Cuisson UV
  • Dispensing
  • Modules additionnels disponibles


Caractéristiques / Spécifications techniques
  • Précision de placement : ±1,0 µm @ 3σ
  • Zone de travail du substrat : 550 x 600 mm
  • Temps de cycle : < 3 s
  • Contrôle actif de la force de collage
  • Méthodes de collage eutectique : diode‑laser, plaque chauffante, estampage et dispensing d'époxy
  • Support du thermocompression (TCB) et des processus TSV
  • Multi flip‑chip
  • Capacité de cartographie de wafer
  • Inspection / mesure post‑collage
  • Alignement dynamique et chauffage du substrat par laser
  • Capable de coller à des températures supérieures à 350°C
  • *Les performances dépendent du package et des matériaux

Catalogues

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.