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Résine photo-sensible ArF
pour semiconducteurs

résine photo-sensible
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Caractéristiques

Applications
pour semiconducteurs
Autres caractéristiques
photo-sensible

Description

Matériaux pour l'imagerie positive par voie sèche et par immersion, et pour le développement de tons négatifs (NTD) Large gamme de systèmes d'imagerie à haute résolution pour l'exposition à 193 nm, y compris l'imagerie positive par voie sèche et par immersion et le développement de tons négatifs (NTD) - Haut débit - Résolution supérieure - Fenêtres de traitement étendues - Faibles niveaux de défauts - Profils verticaux - Série GAR Les produits de la série GAR sont adaptés à un large éventail d'applications nécessitant une exposition sèche à 193 nm - Série FAiRS pour PTD Les produits de la série FAiRS sont adaptés à un large éventail d'applications nécessitant une exposition par immersion à 193 nm et un développement de tonalité positive - Série FAiRS pour NTD Les produits de la série FAiRS sont adaptés à un large éventail d'applications nécessitant une exposition par immersion à 193 nm et le développement de tons négatifs

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.