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Résine pour semiconducteurs ArF
photo-sensibleà immersionhaute performance

Résine pour semiconducteurs - ArF - Fujifilm NDT Systems - photo-sensible / à immersion / haute performance
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Caractéristiques

Applications
pour semiconducteurs
Autres caractéristiques
photo-sensible, à immersion, haute performance

Description

Aperçu
Matériaux pour l'imagerie positive en exposition sèche et en immersion, ainsi que pour l'imagerie à tonalité négative (NTI). Conçus pour des expositions 193 nm à haute résolution avec plusieurs options pour les procédés secs et par immersion.

Gamme de produits
  • GAR Series : Les produits de la GAR Series conviennent aux applications nécessitant une exposition 193 nm en mode sec.
  • FAiRS Series for PTI (positive tone imaging) : Produits FAiRS adaptés à l'exposition 193 nm en immersion et à l'imagerie en tonalité positive.
  • FAiRS Series for NTI (negative tone imaging) : Produits FAiRS adaptés à l'exposition 193 nm en immersion et à l'imagerie en tonalité négative.

Caractéristiques & Avantages
  • Haut débit
  • Excellente résolution
  • Larges fenêtres de procédé
  • Faible taux de défauts
  • Contrôle du profil vertical

Caractéristiques / Données techniques
  • Longueur d'onde : 193 nm
  • Modes d'imagerie : positif sec, immersion (PTI), imagerie à tonalité négative (NTI)
  • Séries de produits : GAR Series (dry), FAiRS Series (PTI et NTI)
  • Conçus pour l'imagerie haute résolution avec de larges fenêtres de procédé et un faible niveau de défauts

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10-13 nov. 2026 Munich (Allemagne) Hall B1 - Stand 516

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