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Résines à polymérisation par la lumière
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... facile et son durcissement rapide. Il mûrit complètement après exposition à la lumière UV à 365 nm dans des épaisseurs allant jusqu'à 1/4 de pouce. L'intensité des sources lumineuses peut varier, mais à 200 watts/pouce, ...
... Présentation
Série de photorésists sensibles au mid-UV conçue pour la photolithographie sur une large plage de résolutions (inférieure à 0,30 µm à >1,0 µm) et de films d'épaisseur variable, sur substrats non-réfléchissants, réfléchissants et ...
Fujifilm NDT Systems
... Présentation
Les polyimides photosensibles développables en solvant de Fujifilm sont des précurseurs de polyimide photo-imageables et des formulations préimidisées conçues pour les applications de couche de redistribution (RDL) et de couche ...
Fujifilm NDT Systems
... réaliser facilement des collages en automatique. Les adhésifs UV réticulent en quelques secondes dès leur exposition à la lumière UV/VISible. Les adhésifs DYMAX par surface activée, réagissent également en quelques secondes dès que les ...
DYMAX Europe GmbH
... Résines de Masquage temporaire SPEEDMASK® en substitution des rubans adhésifs, cires, laques, montages... Lors de la finition de pièces métalliques, les résines de masquage à forte adhésion SPEEDMASK®, protègent efficacement ...
DYMAX Europe GmbH
... réticulent "à la demande" en quelques secondes dès leur exposition aux rayons UV ou de lumière visible. Aucun "séchage" ou autre "chauffage" n'est nécessaire. Les résines mono composant de DYMAX sont à réticulation rapide, ...
DYMAX Europe GmbH
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