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Résine pour semiconducteurs i-Line
photo-sensible

Résine pour semiconducteurs - i-Line - Fujifilm NDT Systems - photo-sensible
Résine pour semiconducteurs - i-Line - Fujifilm NDT Systems - photo-sensible
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Caractéristiques

Applications
pour semiconducteurs
Autres caractéristiques
photo-sensible

Description

Présentation
Série de photorésists sensibles au mid-UV conçue pour la photolithographie sur une large plage de résolutions (inférieure à 0,30 µm à >1,0 µm) et de films d'épaisseur variable, sur substrats non-réfléchissants, réfléchissants et à forte réflectivité.

Gamme de produits
  • Résists i-line pour substrats non-réfléchissants
    Familles de résists destinées aux impressions CD critiques sur substrats non-réfléchissants :
    • OiR 620 series
    • OiR 674 series
  • Résists i-line pour substrats réfléchissants
    Séries proposant des options de photosensibilité rapides pour des résolutions avancées sur substrats réfléchissants :
    • OiR 674 series
    • GiR 1102 series
  • Résists i-line haute résolution multi-usages
    Séries offrant les options de photosensibilité les plus rapides pour des débits élevés et un façonnage haute résolution :
    • GiR 2700 series
    • OiR 305 series
    • OiR 906 series
    • OiR 907 series
  • Résists crossover g- et i-line et large bande
    Résists adaptés pour g-line, i-line et large bande (>800 nm CD) :
    • HiPR 6500 series
    • HPR 510 series
  • Résists teintés pour substrats à haute réflectivité
    Formulations non-blanchissantes offrant une forte densité optique pour le contrôle du CD et du notching :
    • OiR 906HD
    • OiR 305HC
    • HiPR 6500GH
    • HiPR 6500HC
  • Résists i-line pour applications épaisseurs
    Séries conçues pour la mise en forme de films épais (3–13 µm) :
    • FHi-560EP
    • GiR 3114
    • OiR 305
    • OiR 908


Avantages
Large choix de résists mid-UV couvrant des plages CD critiques et non critiques, compatibilité avec plusieurs types de substrats et fenêtres d'épaisseur étendues, avec des compromis photospeed/risolution sélectionnables selon la série.

Caractéristiques techniques
  • Sensibilité : mid-UV (i-line / g-line / broadband)
  • Résolution ciblée : inférieure à 0,30 µm à >1,0 µm selon la série
  • Compatibilité substrat : non-réfléchissant, réfléchissant et haute réflectivité
  • Séries représentatives : OiR 620, OiR 674, GiR 1102, GiR 2700, OiR 305, OiR 906, OiR 907, HiPR 6500, HPR 510, OiR 906HD, OiR 305HC, HiPR 6500GH, HiPR 6500HC, FHi-560EP, GiR 3114, OiR 908
  • Contrôle du CD et du notching pour substrats très réfléchissants (séries teintées)
  • Plage d'épaisseur film pour applications épaisses : 3 µm à 13 µm
  • Options pour photospeed élevé et haute résolution (>500 nm CD) selon la série
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.