PrésentationSérie de photorésists sensibles au mid-UV conçue pour la photolithographie sur une large plage de résolutions (inférieure à 0,30 µm à >1,0 µm) et de films d'épaisseur variable, sur substrats non-réfléchissants, réfléchissants et à forte réflectivité.
Gamme de produits- Résists i-line pour substrats non-réfléchissants
Familles de résists destinées aux impressions CD critiques sur substrats non-réfléchissants :- OiR 620 series
- OiR 674 series
- Résists i-line pour substrats réfléchissants
Séries proposant des options de photosensibilité rapides pour des résolutions avancées sur substrats réfléchissants :- OiR 674 series
- GiR 1102 series
- Résists i-line haute résolution multi-usages
Séries offrant les options de photosensibilité les plus rapides pour des débits élevés et un façonnage haute résolution :- GiR 2700 series
- OiR 305 series
- OiR 906 series
- OiR 907 series
- Résists crossover g- et i-line et large bande
Résists adaptés pour g-line, i-line et large bande (>800 nm CD) :- HiPR 6500 series
- HPR 510 series
- Résists teintés pour substrats à haute réflectivité
Formulations non-blanchissantes offrant une forte densité optique pour le contrôle du CD et du notching :- OiR 906HD
- OiR 305HC
- HiPR 6500GH
- HiPR 6500HC
- Résists i-line pour applications épaisseurs
Séries conçues pour la mise en forme de films épais (3–13 µm) :- FHi-560EP
- GiR 3114
- OiR 305
- OiR 908
AvantagesLarge choix de résists mid-UV couvrant des plages CD critiques et non critiques, compatibilité avec plusieurs types de substrats et fenêtres d'épaisseur étendues, avec des compromis photospeed/risolution sélectionnables selon la série.
Caractéristiques techniques- Sensibilité : mid-UV (i-line / g-line / broadband)
- Résolution ciblée : inférieure à 0,30 µm à >1,0 µm selon la série
- Compatibilité substrat : non-réfléchissant, réfléchissant et haute réflectivité
- Séries représentatives : OiR 620, OiR 674, GiR 1102, GiR 2700, OiR 305, OiR 906, OiR 907, HiPR 6500, HPR 510, OiR 906HD, OiR 305HC, HiPR 6500GH, HiPR 6500HC, FHi-560EP, GiR 3114, OiR 908
- Contrôle du CD et du notching pour substrats très réfléchissants (séries teintées)
- Plage d'épaisseur film pour applications épaisses : 3 µm à 13 µm
- Options pour photospeed élevé et haute résolution (>500 nm CD) selon la série