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Résine pour semiconducteurs i-Line
pour applications électroniquesphoto-sensiblehaute performance

Résine pour semiconducteurs - i-Line - Fujifilm NDT Systems - pour applications électroniques / photo-sensible / haute performance
Résine pour semiconducteurs - i-Line - Fujifilm NDT Systems - pour applications électroniques / photo-sensible / haute performance
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Caractéristiques

Applications
pour semiconducteurs, pour applications électroniques
Autres caractéristiques
photo-sensible, haute performance, à polymérisation par UV, colorée

Description

Présentation
Série de photorésists sensibles au mid-UV conçue pour la photolithographie sur une large plage de résolutions (inférieure à 0,30 µm à >1,0 µm) et de films d'épaisseur variable, sur substrats non-réfléchissants, réfléchissants et à forte réflectivité.

Gamme de produits
  • Résists i-line pour substrats non-réfléchissants
    Familles de résists destinées aux impressions CD critiques sur substrats non-réfléchissants :
    • OiR 620 series
    • OiR 674 series
  • Résists i-line pour substrats réfléchissants
    Séries proposant des options de photosensibilité rapides pour des résolutions avancées sur substrats réfléchissants :
    • OiR 674 series
    • GiR 1102 series
  • Résists i-line haute résolution multi-usages
    Séries offrant les options de photosensibilité les plus rapides pour des débits élevés et un façonnage haute résolution :
    • GiR 2700 series
    • OiR 305 series
    • OiR 906 series
    • OiR 907 series
  • Résists crossover g- et i-line et large bande
    Résists adaptés pour g-line, i-line et large bande (>800 nm CD) :
    • HiPR 6500 series
    • HPR 510 series
  • Résists teintés pour substrats à haute réflectivité
    Formulations non-blanchissantes offrant une forte densité optique pour le contrôle du CD et du notching :
    • OiR 906HD
    • OiR 305HC
    • HiPR 6500GH
    • HiPR 6500HC
  • Résists i-line pour applications épaisseurs
    Séries conçues pour la mise en forme de films épais (3–13 µm) :
    • FHi-560EP
    • GiR 3114
    • OiR 305
    • OiR 908


Avantages
Large choix de résists mid-UV couvrant des plages CD critiques et non critiques, compatibilité avec plusieurs types de substrats et fenêtres d'épaisseur étendues, avec des compromis photospeed/risolution sélectionnables selon la série.

Caractéristiques techniques
  • Sensibilité : mid-UV (i-line / g-line / broadband)
  • Résolution ciblée : inférieure à 0,30 µm à >1,0 µm selon la série
  • Compatibilité substrat : non-réfléchissant, réfléchissant et haute réflectivité
  • Séries représentatives : OiR 620, OiR 674, GiR 1102, GiR 2700, OiR 305, OiR 906, OiR 907, HiPR 6500, HPR 510, OiR 906HD, OiR 305HC, HiPR 6500GH, HiPR 6500HC, FHi-560EP, GiR 3114, OiR 908
  • Contrôle du CD et du notching pour substrats très réfléchissants (séries teintées)
  • Plage d'épaisseur film pour applications épaisses : 3 µm à 13 µm
  • Options pour photospeed élevé et haute résolution (>500 nm CD) selon la série

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ELECTRONICA 2026
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10-13 nov. 2026 Munich (Allemagne) Hall B1 - Stand 516

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