Générateur de plasma radio-fréquence TruPlasma RF Series 3000

contrôlable par PChaute fréquenceindustriel

Résumé
La technologie haute fréquence sans compromis. Les générateurs TruPlasma RF Série 3000 offrent une construction robuste, une grande efficacité et garantissent des processus plasma stables et reproductibles pour des applications exigeantes telles que les écrans plats, les cellules photovoltaïques et les semi-conducteurs.

Aperçu
Garants d'excellents résultats de processus : ces générateurs HF se distinguent par leur rendement élevé, leur robustesse et leur stabilité de processus. Ils sont conçus pour des processus plasma stables et reproductibles et sont installés dans de très nombreuses applications industrielles.

Avantages principaux

• Efficacité et rentabilité : rendements maximaux jusqu'à 80 % permettant une réduction significative des coûts énergétiques (jusqu'à 50 % selon l'application).
• Excellente gestion de l'arc RF : pilotage sûr même pour des processus exigeants.
• Grande solidité et stabilité du processus : technologie CombineLine pour une protection fiable contre les puissances réfléchies en cas de désadaptation.
• Flexibilité maximale : production de puissance continue ou pulsée pour de nombreuses utilisations.
• Sûreté et productivité : construction robuste autorisant des temps de fonctionnement prolongés et des vitesses de revêtement supérieures.

Applications

• Procédés de gravure et de revêtement : gravure par plasma, gravure ionique réactive (RIE), ALD, PECVD.
• Revêtement de pièces métalliques : application ou retrait de matière pour revêtements anti-usure, structuration d'éléments électroniques, calcination au plasma de résines photosensibles.
• Revêtement d'écrans plats et de cellules photovoltaïques : pulvérisation RF, procédés RIE, ALD, PECVD adaptés à ces secteurs.

Système RF et intégration
CombineLine : impédance de sortie 50 ohms et protection contre les perturbations dues à la réflexion de puissance. SystemPort : mesure du signal RF directement à l'entrée et à la sortie du réseau adaptatif pour former une boucle de régulation fermée, surveillance améliorée des paramètres de processus et protection du réseau adaptatif. Interfaces de commande et intégration possibles (ex. EtherCAT) pour piloter l'ensemble du système RF via une interface unique.

Logiciel
TruControl Power : logiciel de commande convivial pour la mise en service, la surveillance et le pilotage du générateur HF ou du système RF complet.

Options et composants disponibles

• Gestion de l'arc (module de contrôle avancé pour identification et protection contre les arcs).
• Réseaux adaptatifs TruPlasma Match (TruPlasma Match Série 1000) pour un transfert optimal de puissance du générateur vers la décharge plasma.
• Maîtres-oscillateurs (synthétiseur numérique de fréquence et de phase) pour stabiliser et optimiser des processus plasma synchrones (versions pour 13,56 MHz et combinaisons de fréquences).
• Commutateurs HF pour utiliser un générateur HF sur plusieurs stations de traitement (différentes classes de puissance et configurations de sorties).
• Câbles coaxiaux spécialement conçus pour la transmission de puissance HF dans des systèmes 50 ohms.

Informations complémentaires
Large déploiement industriel avec plus de 20 000 unités installées dans le monde. Des variantes et options matérielles/logiciels peuvent exister selon les pays.

Caractéristiques / spécifications techniques

• Rendement : jusqu'à 80 % (selon la version et l'application).
• Réduction potentielle des coûts énergétiques : jusqu'à 50 % (selon application et conditions).
• Protection contre les puissances réfléchies : Technologie CombineLine.
• Impédance de sortie : 50 ohms.
• Modes de puissance : continu et pulsé.
• Fréquence de fonctionnement : fréquence radio (ex. 13,56 MHz pour certaines variantes / compatibilité multi-fréquences selon options de maître-oscillateur).
• Intégration système : SystemPort pour mesure et régulation, interfaces d'intégration (ex. EtherCAT).
• Logiciel de commande : TruControl Power.
• Domaines d'application typiques : RIE, ALD, PECVD, pulvérisation RF, revêtement et gravure plasma.
• Déploiement industriel étendu : >20 000 unités installées (référence marché).