Générateur de plasma haute fréquence TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2)

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Aperçu
Le TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) est un générateur HiPIMS conçu pour remplacer les sources de pulvérisation CC sur des systèmes magnétron existants sans modification matérielle. Des puissances crêtes très élevées génèrent des densités de plasma extrêmes et des flux ioniques importants pour obtenir des couches PVD dures, résistantes à la corrosion et à l'usure.

Points clés

• Puissance crête jusqu'à 4 MW pour une ionisation et une densité de plasma très élevées.
• Adaptation directe aux systèmes de cathode et conditions de procédé existants pour une intégration facilitée.
• Utilisable en mode CC ; aucune alimentation CC externe requise.
• Conception mono‑bloc compacte, entièrement refroidie par eau, adaptée à l'installation en salle blanche.
• Gestion d'arc entièrement numérique (par ex. CompensateLine CLC) pour une faible énergie d'arc et une réduction des défauts de film.

Applications

• Revêtements de matière dure pour protection contre la corrosion et l'usure de pièces fortement sollicitées.
• Semi‑conducteurs et photovoltaïque : énergie de procédé adaptée, haute productivité et paramètres de dépôt stables.
• Revêtements de grandes surfaces de verre pour le bâtiment et l'industrie par procédés PVD plasma.
• Gravure et remplissage de tranchées en combinaison avec substrats polarisés pour améliorer les propriétés des couches.

Avantages pour le client & avantages process

• Grande stabilité de procédé : réglage de la durée et de la fréquence d'impulsion et régulation de la puissance pour conserver des paramètres de dépôt constants, y compris en procédés réactifs.
• Pulvérisation sans gouttelettes et défauts minimaux de film grâce à la gestion d'arc numérique à très faible énergie d'arc.
• Paramètres d'impulsion ajustables et contrôle de puissance avancé pour accroître les vitesses de dépôt et contribuer à la réduction du coût total de possession.
• Utilisation évolutive depuis les laboratoires R&D jusqu'aux grandes installations industrielles grâce aux capacités d'énergie et de tension élevées.

Options

• CompensateLine (CLC) : gestion d'arc numérique pour optimiser la qualité des couches et les vitesses d'addition.
• Options d'adaptation de procédé pour correspondre aux différents types de cathodes et applications.

Logiciel

• PVD Power : logiciel opérateur multilingue pour configuration, supervision et diagnostic ; affichage des paramètres en temps réel, alarmes, valeurs de consigne et enregistrement haute résolution (fonction oscilloscopie) pour optimisation et analyse des défauts.

Remarques
Conception mono‑bloc entièrement refroidie par eau ; configurable selon les exigences du procédé et adaptée aux environnements en salle blanche.

Caractéristiques / spécifications techniques

• Puissance crête : jusqu'à 4 MW
• Tension maximale : jusqu'à 2 kV
• Durée d'impulsion : jusqu'à 5 ms
• Fréquence d'impulsion : jusqu'à 10 kHz
• Modes : HiPIMS et CC
• Refroidissement : totalement refroidi par eau
• Type d'unité : unité compacte mono‑bloc (sans besoin d'alimentation CC externe)
• Gestion d'arc : entièrement numérique (CompensateLine CLC disponible)
• Logiciel : PVD Power