Générateur de plasma programmable TruPlasma MW Series 1000 /3000 / 5000
haute fréquenceradio-fréquencecontrôlable par PC

Générateur de plasma programmable - TruPlasma MW Series 1000 /3000 / 5000 - TRUMPF lasers - haute fréquence / radio-fréquence / contrôlable par PC
Générateur de plasma programmable - TruPlasma MW Series 1000 /3000 / 5000 - TRUMPF lasers - haute fréquence / radio-fréquence / contrôlable par PC
Ajouter à mes favoris
Ajouter au comparateur

Caractéristiques

Type
programmable, haute fréquence, radio-fréquence, contrôlable par PC, pour traitement de surface, industriel
Autre caractéristique
PECVD, PVD

Description

Présentation
Générateur micro‑ondes de plasma à semi‑conducteurs, conçu pour atteindre des densités de plasma très élevées et répondre aux exigences de procédés industriels exigeants. La Série TruPlasma MW repose sur la technologie solid‑state et offre une précision de fréquence supérieure aux solutions à magnétron. Le concept modulaire permet une mise à l'échelle précise de la puissance tout en garantissant une alimentation stable et une qualité de procédé constante.

Avantages clés
  • Technologie micro‑ondes à semi‑conducteurs avec haute précision de fréquence
  • Concept de plateforme modulaire pour une mise à l'échelle précise de la puissance
  • Adaptation automatique de la fréquence (auto frequency tuning) pour une reproductibilité élevée
  • Phases synchrones : possibilité d'exploitation phasée et pulsée de plusieurs générateurs en systèmes multi‑antennes pour homogénéiser le plasma
  • Conception robuste assurant un fonctionnement fiable même en cas de désadaptation
  • Modulation de fréquence numérique de haute précision pour un contrôle de procédé reproductible
  • Communication en temps réel via EtherCAT pour un contrôle en millisecondes et une distribution précise du plasma


Applications
  • Fabrication de cellules photovoltaïques : sputtering, PECVD et autres procédés de dépôt/ablation
  • Fabrication de semi‑conducteurs : gravure sèche et procédés plasma avancés
  • Revêtement d'écrans plats et displays : PECVD, ALD, RIE et procédés associés


Avantages pour les procédés
  • Densités de plasma maximales adaptées aux applications exigeantes
  • Dosage précis de l'énergie et régulation fine de la puissance pour une répétabilité wafer‑to‑wafer
  • Alimentation stable préservant la qualité du procédé en conditions variables
  • Amélioration de l'homogénéité du plasma par réglage de la cohérence de phase entre générateurs


Caractéristiques techniques / spécifications
  • Famille de produits : TruPlasma MW Série 1000 / 3000 / 5000
  • Exemple de modèle sur cette page : TruPlasma MW 3002
  • Technologie : générateur micro‑ondes à semi‑conducteurs (solid‑state)
  • Contrôle de fréquence : modulation numérique de fréquence haute précision
  • Auto frequency tuning : adaptation automatique pour optimiser les résultats
  • Opération multi‑générateurs : synchronisation de phases pour systèmes multi‑antennes
  • Interface : EtherCAT numérique pour communication temps réel et contrôle en millisecondes
  • Conception : plateforme modulaire pour puissance scalable et haute fiabilité
  • Secteurs ciblés : fabrication de semi‑conducteurs, photovoltaïque, revêtement d'écrans

Catalogues

Aucun catalogue n’est disponible pour ce produit.

Voir tous les catalogues de TRUMPF lasers
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.