Aligneur de masque pour substrat de grande surface

entièrement automatiquepour la production

Vue d'ensemble
Conçu pour l'exposition de verre haute définition, ce système intègre un système optique UV optimisé pour l'exposition de motifs fins et un mécanisme de parallélisation haute précision entre photomasque et substrat. Fonctionnement entièrement automatique avec modes d'exposition : contact sous vide, contact doux et proximité. Configurations verticale et horizontale pour différentes tailles de masque : verticale pour grands masques (G5 et plus), horizontale pour G4.5 ou moins.

Utilisation
Adapté au traitement du verre en lignes de production FPD (afficheurs à panneaux plats), TP (touch panels) et CF (cell fabrication).

Spécification

• Taille de substrat disponible : G4.5 - G8.5
• Précision d'alignement : ±1 μm
• Modes d'exposition : contact sous vide, contact doux, proximité

Caractéristiques clés

• Système optique UV optimisé pour l'exposition haute définition
• Mécanisme de parallélisation photomasque/ substrat à haute précision
• Fonctionnement entièrement automatique avec modes d'exposition sélectionnables
• Configurations : verticale (recommandée pour G5+) et horizontale (recommandée pour G4.5 ou moins)
• Conçu pour intégration en lignes industrielles FPD/TP/CF