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OAI
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OAI
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EV Group
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EV Group
... Présentation
Ce système d'exposition de wafers (Mask Aligner) intègre un système optique UV original optimisé pour une exposition haute définition et un mécanisme de parallélisme photomasque/wafer de grande précision. Le système entièrement ...
SEIWAOPTICAL
... Vue d'ensemble
- Système d'exposition de wafers (mask aligner) sur établi, conçu pour la R&D et la production en petites séries.
- Prend en charge trois modes de contrôle d'écart : contact dur, contact doux et proximité.
Applications
- Traitement
SEIWAOPTICAL
... : ≤ 0,5 µm
Caractéristiques techniques
- Manipulation automatique des wafers et alignement du masque
- Prise en charge des tailles combinées : 2–4 pouces et 4–6 pouces
- Conception axée sur l'alignement
SEIWAOPTICAL
... sous vide, contact doux et proximité. Configurations verticale et horizontale pour différentes tailles de
masque : verticale pour grands
masques (G5 et plus), horizontale pour G4.5 ou moins.
Utilisation
Adapté ...
SEIWAOPTICAL
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