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... Précision d'alignement : ≤ 0,5 µm
Caractéristiques techniques
- Manipulation automatique des wafers et alignement du masque
- Prise en charge des tailles combinées : 2–4 pouces et 4–6
SEIWAOPTICAL
... une exposition haute définition et un mécanisme de parallélisme photomasque/wafer de grande précision. Le système
entièrement automatique propose trois modes de contrôle d'écart : Vacuum contact, Soft Contact et Proximity Gap.
Applications ...
SEIWAOPTICAL
... Caractéristiques clés
- Alignement sélectionnable : options d'alignement manuel ou automatique.
- Contrôle d'écart sélectionnable : réglage automatique ou manuel du gap.
- Chargement/déchargement
SEIWAOPTICAL
... substrat. Fonctionnement entièrement automatique avec modes d'exposition : contact sous vide, contact doux et proximité. Configurations verticale et horizontale pour différentes tailles de masque : verticale pour grands ...
SEIWAOPTICAL
... manière transparente avec les outils du cluster. Les nouveaux aligneurs de masques de production d'OAI constituent un ensemble complet. YIELDS HAUTEMENT OPTIMISÉS 200 WPH en mode 1er masque Optique de ...
... technologie d'alignement de masque à la pointe de la technologie sur une surface au sol réduite jusqu'à une taille de plaquette de 150 mm. Reconnu pour sa polyvalence et sa fiabilité, l'EVG620 NT offre une technologie d'alignement des ...
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