ProduitSystème d'exposition de wafer entièrement automatique (mask aligner) pour la production de puces LED. Compatible avec les Micro LED et les wafers LED standard ; disponible en deux versions combinées pour wafers 2–4 pouces et 4–6 pouces.
PrésentationDeux versions du système d'exposition entièrement automatique sont proposées pour couvrir différentes plages de tailles de wafers :
- Type combiné 2–4 pouces
- Type combiné 4–6 pouces
ApplicationsConçu pour les procédés d'exposition de Micro LED et LED en R&D et en production.
Spécifications- Capacité tact (première étape) : 150 pièces ou plus par heure
- Capacité tact (deuxième étape) : 130 pièces ou plus par heure
- Précision d'alignement : ≤ 0,5 µm
Caractéristiques techniques- Manipulation automatique des wafers et alignement du masque
- Prise en charge des tailles combinées : 2–4 pouces et 4–6 pouces
- Conception axée sur l'alignement précis et les débits mesurés