Présentation du produitLa série JF est un filtre à gaz en ligne destiné à la distribution et à la filtration point de service dans les systèmes de gaz haute pureté pour procédés semi-conducteurs et applications industrielles. Construction en acier inox 316L et éléments filtrants disponibles en différentes porosités pour protéger l'équipement en aval des particules.
Caractéristiques principales- Matériau de l'élément filtrant : acier inox 316L
- Pression de service maximale : 206 bar
- Indice de filtration standard : 5 µm (autres porosités disponibles : 0,2 ; 2 ; 5 ; 10 ; 20 µm)
- Conception compacte en ligne pour montage direct sur conduite de gaz
- Adapté aux gaz ultra-haute pureté utilisés en salle blanche
DébitTaille nominale de pore µm — Débit d'air (L/min std) approximatif pour raccords 1/8" aux pressions d'entrée 5 / 10 / 15 psig (0,34 / 0,68 / 1,0 bar) :
0,2 µm — 0,3 / 0,6 / 1,4 L/min
2 µm — 5,6 / 11 / 17 L/min
5 µm — 11 / 17 / 25 L/min
10 µm — 14 / 25 / 28 L/min
20 µm — 28 / 47 / 56 L/min
Raccords et dimensionsRaccords disponibles : embouts tube (impériaux et métriques), NPT femelle, NPT mâle, face seal femelle. Exemples de références et diamètres d'ouverture :
JF-S-02-02 (1/8", ouverture 2,39 mm) — A 59,7 mm, B 14,3 mm
JF-S-04-04 (1/4", ouverture 4,75 mm) — A 74,9 mm, B 19,0 mm
JF-S-06-06 (3/8", ouverture 7,14 mm) — A 81,5 mm, B 25,4 mm
JF-S-08-08 (1/2", ouverture 10,3 mm) — A 88,6 mm, B 25,4 mm
Informations de commandeChoisir le numéro de référence en fonction du type de raccord et de la taille requis (ex. : JF-S-02-02, JF-S-04-04, JF-S-06-06, JF-S-08-08, JF-S-3M-3M, JF-S-6M-6M, VF-S-F2-F2, VF-S-F4-F4). Contacter le fournisseur pour porosités personnalisées ou assemblages.
Spécifications techniques- Série : JF Series (filtres à gaz en ligne)
- Matériau : acier inox 316L
- Pression de service maximale : 206 bar
- Indices standards : 5 µm (autres : 0,2 ; 2 ; 5 ; 10 ; 20 µm)
- Données de débit : fournies par taille de pore à 5, 10, 15 psig
- Raccords : embouts tube, NPT, face seal
- Application : systèmes de gaz haute pureté pour procédés semi-conducteurs et industriels