Système de distribution de solvant JW series

d'eaupour réservoirde produits chimiques en vrac

Présentation
En environnement de fabrication de semi-conducteurs, les systèmes de distribution de produits chimiques liquides UHP (Ultra-High Purity) assurent le transfert contrôlé et à faible risque de contamination des acides, bases et solvants entre le stockage en vrac et les postes d'utilisation. Ces systèmes limitent la manipulation manuelle et préservent l'intégrité des procédés pour un rendement élevé.

Système de gestion de livraison chimique en vrac
L'infrastructure de manutention en vrac transporte de grands volumes depuis des réservoirs externes ou des réserves de fûts. Les constructions typiques emploient de l'acier inoxydable 316L électropol ié ou des conduites PFA de haute qualité. Les méthodes de transfert comprennent le transfert sous pression automatisé ou des pompes magnétiques pour un débit stable et sans pulsation, réduisant la génération de particules et la cristallisation.

Système de distribution UHP (dernier kilomètre)
Le système UHP de dernier kilomètre alimente le point d'utilisation en intégrant une filtration avancée, des capteurs de niveau sans contact et une surveillance de la consommation en temps réel. Les mesures de sécurité et de pureté comprennent une double rétention, la détection automatique de fuites et la purge à l'azote pour éviter l'oxydation et protéger les opérateurs tout en garantissant un approvisionnement haute-pureté aux outils de production.

Données techniques
Modèle : JW-200L-CDM, JW-1000L-CDM
Dimensions armoire gaz spéciale : W2200*D1500*H2000 (double fûts) / W2990*D2100*H2000 (double fûts)
Alimentation armoire de contrôle : 220VAC, 50Hz, 0.5–3KW, protection contre les fuites
Purge : PN2, SS316 1/2" SWG
Eau ultra-pure : UPW, raccord JIS 16A
Air comprimé : CDA, SS316 1/2" SWG
Évacuation déchets : Drain, PP DN20 Fusion Socket / Drain, PP DN25 Fusion Socket

Éléments standard / optionnels

• Panneau d'opération manuel d'urgence (option)
• Filtre haute efficacité
• Capteur de porte (option)

Applications

• Semi-conducteur
• Photovoltaïque
• Énergie solaire
• Écran à cristaux liquides
• Fibre optique
• Autres secteurs de production high-tech

Produits chimiques spécialisés traités

• HF - Acide fluorhydrique
• HCL - Acide chlorhydrique
• H2O2 - Peroxyde d'hydrogène
• KOH - Hydroxyde de potassium
• HNO3 - Acide nitrique
• NH4OH - Hydroxyde d'ammonium
• H2SO4 - Acide sulfurique

Fonctions

• Filtration des produits chimiques liquides
• Échantillonnage des produits chimiques liquides
• Circulation des produits chimiques liquides
• Distribution des produits chimiques liquides

Caractéristiques / spécifications techniques

• Modèle : JW-200L-CDM ; JW-1000L-CDM
• Dimensions armoire gaz spéciale : W2200 × D1500 × H2000 (double fûts) ou W2990 × D2100 × H2000 (double fûts)
• Alimentation armoire de contrôle : 220VAC, 50Hz, 0.5–3KW avec protection contre les fuites
• Purge : PN2 avec SS316 1/2" SWG
• Raccord eau ultra-pure : UPW, JIS 16A
• Air comprimé : CDA avec SS316 1/2" SWG
• Options d'évacuation des déchets : PP DN20 Fusion Socket ou PP DN25 Fusion Socket
• Équipements standard : enveloppe PP + hublot d'observation PVC transparent, vanne interne en PFA, purge à l'azote, échantillonnage, alimentation acide entièrement automatique, commutation automatique des fûts, configuration de pompe redondante (deux en service + une de secours), affichage tactile de statut, arrêt automatique, alarmes et autocontrôles, support multilingue, entrées signaux multiples, lecteur de codes, filtre haute efficacité, capteur de porte optionnel
• Applications : Semi-conducteur, Photovoltaïque, Énergie solaire, Écran LCD, Fibre optique, autres domaines de production high-tech
• Produits chimiques traités : HF, HCL, H2O2, KOH, HNO3, NH4OH, H2SO4
• Fonctions principales : filtration, échantillonnage, circulation, distribution des produits chimiques liquides