Machine de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétron OPT-S 1500

verticale en lignepour applications automobiles

Vue d'ensemble
OPT-S 1500 est un système de dépôt optique par pulvérisation magnétron avec une zone de dépôt effective de Φ940 × H1000 mm et une cuve de Φ1200 × H1650 mm. Il intègre un grenaillage/gravure par source d'ions et 8 sources de pulvérisation (options planaires ou cylindriques) et est conçu pour des multicouches optiques à haute uniformité destinées aux lentilles, surfaces automobiles, écrans, LiDAR et affichages tête haute. Les types de films pris en charge incluent filtres coupure, filtres bande-passante, filtres RGB, AR, hard AR, IR-AR, HR, AS/AF et revêtements ITO.

Avantages clés

• 8 sources de pulvérisation avec configurations planaires ou cylindriques selon le procédé
• Surveillance optique en ligne pour le suivi spectral en temps réel et le contrôle de la fin de dépôt
• Mouvement planétaire vertical (révolution et rotation) pour une distribution d'épaisseur uniforme sur multicouches optiques
• Procédé de pulvérisation produisant des couches denses et adhérentes avec faibles pertes par absorption et diffusion
• Interface tactile et commande PLC pour l'exploitation par recettes
• Gestion du vide par plusieurs pompes moléculaires (5 pompes moléculaires)

Applications et types de films

• Applications : lentilles optiques, panneaux automobiles, écrans d'affichage, modules LiDAR, affichages tête haute
• Types de films : filtres coupure, filtres bande-passante, filtres RGB, AR (anti-reflet), hard AR, IR-AR, HR (haute réflectance), AS/AF (antisalissure/anti-empreintes) et revêtements ITO

Conception et caractéristiques de l'équipement

• Système vertical intégré avec porte latérale et deux hublots pour observation du processus
• Support cylindrique planétaire vertical pour pièces avec révolution et rotation
• Spécification du porte-pièces : Φ170 × 12 arbres (ajustable selon les exigences)
• Taille de la cuve (Diamètre × Hauteur) : Φ1200 × H1650 mm
• Zone de dépôt effective (Diamètre × Hauteur) : Φ940 × H1000 mm
• Température de fonctionnement : réglable de la température ambiante à 300°C
• Vide ultime : ~8 × 10⁻5 Pa (sans charge, en condition salle propre)
• Empreinte au sol (L × l × H) : 4.0 × 2.1 × 2.8 m

Caractéristiques techniques

• Modèle : OPT-S 1500
• Technologie de dépôt : pulvérisation magnétron
• Technologie d'attaque : gravure par source d'ions
• Matériaux de substrat : verre, matériaux cristallins, polymères, céramiques et métaux
• Structure de l'équipement : système vertical intégré ; porte latérale ; 2 hublots
• Taille de la cuve (Diamètre × Hauteur) : Φ1200 × H1650 mm
• Zone de dépôt effective (Diamètre × Hauteur) : Φ940 × H1000 mm
• Spécification du porte‑pièces : Φ170 × 12 arbres ; ajustable selon les exigences
• Mouvement du porte‑pièces : système porte‑pièces cylindrique planétaire vertical (révolution et rotation)
• Sources de pulvérisation : 8 (options planaires / cylindriques)
• Température de fonctionnement : température ambiante à 300°C
• Vide ultime : ~8 × 10⁻5 Pa (sans charge, en condition salle propre)
• Dimensions de l'équipement (L × l × H) : 4.0 × 2.1 × 2.8 m
• Contrôle : interface tactile et commande PLC
• Système de vide : plusieurs pompes moléculaires (5 pompes moléculaires)