Lame à retard de phase radiale #3683

en quartzpour conversion de polarisation linéaire

Présentation
Les convertisseurs de polarisation radiale (S-waveplates) sont des retardateurs à variation spatiale inscrits dans la silice fondue. Ils convertissent la polarisation linéaire en polarisation radiale ou azimutale et la polarisation circulaire en vortex optique (faisceau en forme d’anneau). Ils sont conçus pour le contrôle de la polarisation dans les applications de traitement laser et de manipulation optique nécessitant une réduction de la taille du point focal ou des profils en vortex.

Points clés

• Convertit la polarisation linéaire en polarisation radiale ou azimutale
• Convertit la polarisation circulaire en vortex optique (faisceau en anneau)
• Seuils de dommage élevés compatibles avec les régimes laser nanoseconde et femtoseconde
• Versions d’ordre supérieur disponibles pour générer des charges topologiques plus élevées et des motifs de polarisation complexes

Fabrication
Les dispositifs sont fabriqués par inscription, au laser femtoseconde, de nanorevêtements auto-organisés dans la silice fondue. Ce procédé crée des retardateurs à variation spatiale (S-waveplates) avec une biréfringence locale précise, optimisés pour des applications laser à seuil de dommage élevé et une performance stable sous irradiation à haute intensité.

Applications

• Micro-perçage et usinage micro-géométrique à grand rapport d’aspect sur métaux et diélectriques
• Microscopie STED et microscopie par excitation à deux photons utilisant des faisceaux vortex (en anneau)
• Micromachinage laser de matériaux transparents ; combinés à des axicons, les convertisseurs d’ordre supérieur peuvent générer des faisceaux de Bessel vectoriels
• Pinces optiques et piégeage multiple de particules grâce à une polarisation sur mesure et des profils de faisceau en vortex

Caractéristiques techniques

• Type : Convertisseur de polarisation radiale (S-waveplate)
• Fonction : Convertit linéaire → radiale/azimutale ; circulaire → vortex optique
• Substrat / Matériau : Silice fondue (inscription de nanogratings)
• Méthode de fabrication : Inscription par laser femtoseconde de nanogratings auto-organisés dans la silice fondue
• Seuil de dommage : Élevé ; adapté aux régimes laser nano- et femtoseconde
• Options d’ordre supérieur : Disponibles pour générer des motifs de polarisation et des vortex optiques d’ordre supérieur (charge topologique accrue)
• Compatibilité : Peut être combiné avec des axicons pour produire des faisceaux de Bessel vectoriels
• Applications typiques : Micromachinage, microscopie STED et à deux photons, pinces optiques, micro-perçage