Magnétron pulsé HiPIMS

HIPIMS Sputtering est l'abréviation de High Power Pulsed Magnetron Sputtering. Cette avancée relativement récente dans la pulvérisation pulsée utilise des impulsions de très haute puissance et de courte durée pour générer un plasma et ioniser un grand pourcentage des atomes pulvérisés. Il a été démontré qu'un contrôle précis de l'intensité du champ magnétique à la surface de la cible est critique pour le procédé HIPIMS, tant pour la réduction de l'arc électrique que pour une ionisation optimale du matériau pulvérisé. Angstrom Science a développé des solutions pour ses gammes de produits circulaires et linéaires qui permettent de faire varier le champ magnétique soit discrètement (grâce à des ensembles d'aimants interchangeables pour les cathodes de montage internes), soit en continu (grâce à des ajustements de la hauteur du bloc magnétique sur les cathodes de montage externes). Les magnétrons HIPIMS sont utilisés pour le prétraitement d'une sous-ligne avant le dépôt du revêtement et les dépôts de couches minces à haute densité microstructurelle.