Magnétron pulsé HiPIMS

cylindriquecirculaire

La pulvérisation magnétron à impulsions de haute puissance (HiPIMS) est une avancée relativement récente dans le domaine de la technologie de pulvérisation pulsée. Elle utilise des impulsions de très haute énergie et de courte durée pour générer une décharge plasma qui ionise une grande partie des atomes pulvérisés. Le flux ionisé peut ensuite être guidé afin d’améliorer le contrôle des propriétés du revêtement. Dans le procédé HiPIMS, une tension de crête élevée et une densité de courant élevée sont appliquées à la cible de pulvérisation sous forme d’impulsions de durée relativement courte, à des fréquences tout aussi basses et avec de longs intervalles entre les cycles. Les durées d’impulsion se situent généralement entre 50 et 200 microsecondes, avec des fréquences de l’ordre de 500 hertz, tandis que l’intervalle entre les cycles peut être aussi court que quelques centièmes de seconde. Cela permet d’obtenir un faible rapport cyclique, de l’ordre de 10 %, ce qui minimise l’échauffement tout en préservant la stabilité du procédé. Le recours à la technologie HiPIMS pour modifier la morphologie et la structure des films obtenus présente plusieurs avantages. Des propriétés telles que la densité, la dureté, la topographie de surface, l’indice de réfraction et l’adhérence peuvent toutes être modifiées et améliorées grâce au procédé HiPIMS. Angstrom Sciences a développé une série de cathodes de pulvérisation capables de supporter ces densités de puissance extrêmes pour des applications de production en continu de longue durée. Outre notre système breveté de refroidissement turbulent de la cible, les cathodes de pulvérisation magnétron à impulsions haute puissance d’Angstrom Sciences intègrent des canaux de refroidissement supplémentaires dans le corps de l’anode et les brides de fixation afin de maintenir un refroidissement optimal pendant le fonctionnement du procédé.