Machine d'inspection optique eDR7380™

pour waferspour l'industrie électroniquede défauts

systèmes d'examen et de classification des défauts de la tranche de silicium électronique Le système d'examen et de classification des défauts des plaquettes eDR7380™ à faisceau d'électrons (e-beam) prend en charge la fabrication de plaquettes et de puces pour les semi-conducteurs à large bande interdite. Il fournit des images haute résolution des défauts et utilise une classification automatique des défauts par apprentissage automatique pour produire un pareto des défauts précis. Les données générées par l'eDR7380 permettent une recherche plus rapide des défauts lors du développement, une détection plus rapide des excursions et des données plus précises et exploitables lors de la production. Les informations sur les défauts produites par l'eDR7380 permettent d'accélérer la mise sur le marché pour de nombreux types de substrats (SiC, GaN, verre, saphir, POI (piézoélectrique sur isolant), etc.) et de dispositifs (puissance, LED, photonique, RF, MEMS, etc.). Construit sur une plate-forme flexible et configurable, l'eDR7380 examine et classifie une large gamme de tailles et de types de défauts pour plusieurs tailles de plaquettes (150 mm, 200 mm, 300 mm) et épaisseurs de plaquettes (180 µm à 1500 µm). eDR® est une marque déposée de KLA Corporation. Imagerie des défauts, classification automatique des défauts en ligne et gestion des performances, contrôle de la qualité des plaquettes nues à la sortie et à l'entrée, disposition des plaquettes, découverte des défauts, découverte des fenêtres de processus, qualification des fenêtres de processus, examen des arêtes de biseau, analyse de la composition par rayons X à dispersion d'énergie (EDX) Le système d'examen et de classification des défauts des plaquettes de silicium par faisceau d'électrons eDRX1 prend en charge la production de plaquettes et de puces à base de silicium.