Vanne à manchon LD

manuellede purgede commande

Vanne diaphragme manuelle basse pression LD SERIES — Ultra haute pureté (UHP) haute température, architecture zéro volume mort

Application et objectif
La vanne diaphragme manuelle LD SERIES est conçue pour les lignes de vapeur basse pression et les lignes sous vide ultra haute pureté (UHP) en fabrication de semi‑conducteurs, en particulier pour les lignes chauffées utilisées en CVD et ALD. Elle assure une isolation manuelle positive tout en éliminant les fuites virtuelles susceptibles d’impacter des traitements sub-nanométriques des wafers.

Élimination des fuites virtuelles par conception

• Architecture zéro volume mort : Cavité interne mouillée optimisée et sans poches dissimulées pour prévenir l’enfermement moléculaire.
• Sélection de matériaux haute température : Pièces mouillées en acier inox 316L VIM‑VAR et diaphragmes en Hastelloy C‑22 ou superalliages à base de cobalt (UNS R30003) pour conserver l’intégrité sous chauffe continue.
• Finition électropolissage : Surfaces internes électropolies à < 5 micro‑pouces Ra pour réduire l’adsorption et accélérer la désorption durant les purges.

Consignes d’installation et de maintenance
Déballer les composants double‑scellés uniquement en salle blanche certifiée Classe 100. Monter la vanne avec des assemblages orbital butt‑weld ou connexions face‑seal VCR recommandés. En cas d’utilisation de manchons chauffants, vérifier la couverture homogène et ne pas dépasser la température maximale admissible. Réaliser des tests de décroissance de vide et des contrôles par spectromètre de masse à l’hélium pour vérifier l’intégrité avant mise en production.

LD SERIES
VANNE DIAPHRAGME MANUELLE BASSE PRESSION

Caractéristiques
Corps

• Corps en acier inox 316L VIM‑VAR pour applications ultrahaute pureté.
• Rugosité interne atteignable < 5 μin Ra et canal d’écoulement entièrement nettoyable.
• Réduction des zones d’enfermement pour faciliter la purge et maximiser le débit.

Diaphragme

• Hastelloy C‑22 ou superalliages à base de cobalt (UNS R30003) pour résistance thermique et corrosive.
• Conception optimisée pour longue durée de cycle.

Siège

• Siège PCTFE entièrement contenus résistant au gonflement et à la contamination.
• Performances améliorées aux tests d’étanchéité à l’hélium et génération minimale de particules.
• Assemblage et conditionnement en environnement à haute propreté; test à l’hélium avant expédition.

Données techniques
Illustrations techniques et plans dimensionnels de référence disponibles (dimensions en millimètres; sujettes à modification).

Dimensions produit
Les dimensions sont fournies à titre indicatif et peuvent être mises à jour.

Géométrie du canal d’écoulement
Canal d’écoulement optimisé pour minimiser les zones d’enfermement et maximiser l’efficacité de purge.

Informations de commande
Plusieurs configurations et spécifications standard de commande sont disponibles pour la famille LD SERIES.

Spécifications

• Modèle / Série : LD SERIES
• Application : Lignes sous vide UHP et lignes vapeur basse pression pour procédés semi‑conducteurs (CVD, ALD)
• Matériau du corps : Acier inox 316L VIM‑VAR
• Finition interne : Électropolissage à < 5 micro‑pouces Ra
• Matériaux de diaphragme : Hastelloy C‑22 ou superalliages à base de cobalt (UNS R30003)
• Matériau / conception du siège : Siège PCTFE entièrement contenu
• Architecture : Cavité interne mouillée zéro volume mort
• Manipulation salle blanche : Conditionnement double‑scellé; déballage en Classe 100 et assemblage haute propreté
• Options de connexion : Orbital butt‑weld ou VCR face‑seal (recommandé)
• Contrôles : Tests de décroissance de vide et spectromètre de masse à l’hélium; test à l’hélium avant expédition
• Remarques opérationnelles : Conçue pour lignes chauffées; vérifier la couverture homogène du manchon chauffant et ne pas dépasser la température admissible