Système de mesure optique CM300xi-SiPh

pour waferpour étalonnageentièrement automatique

station de palpage 300 mm avec solution intégrée de palpage au niveau des plaquettes et des puces pour la photonique au silicium La station de mesure CM300xi-SiPh 300 mm est la première solution de mesure intégrée vérifiée sur le marché qui permet d'effectuer des mesures optiques optimisées, éprouvées en ingénierie et en production, immédiatement après l'installation - sans développement supplémentaire. Cet assistant de mesure autonome SiPh unique en son genre fournit un ensemble de fonctions révolutionnaires qui étalonnent avec précision le matériel de positionnement optique sur la station de mesure et vérifient les performances du système intégré. En combinaison avec le système révolutionnaire OptoVue pour les étalonnages avancés, les algorithmes intelligents de vision artificielle et le TopHat exclusif de SiPh pour les environnements sombres, protégés et hors gel, le système permet un véritable étalonnage et un réétalonnage autonomes mains libres à plusieurs températures. Cela permet d'obtenir plus rapidement des mesures plus précises et de réduire le coût des tests. Les outils SiPh-Tools et l'interface de contrôleur photonique (PCI) développés exclusivement par FormFactor fournissent de puissants outils logiciels pour les alignements, la collecte et l'analyse des données. Cela inclut tous les algorithmes nécessaires pour utiliser les fibres et les réseaux de fibres avec des applications de couplage de surface et de bord.