Présentation du produitLe BBPXMS-PL est constitué de plaquettes céramiques multicouches empilées axialement et collées à l'époxy pour générer un micro-déplacement axial. Les configurations proposées couvrent une plage de déplacements, de fréquences et de forces adaptées aux applications industrielles de positionnement précis.
Construction et options- Isolation côté céramique et enveloppe en ruban Kapton® ; les fils standard mesurent environ 75 mm de long.
- Chapeaux d'extrémité en céramique disponibles en versions plates ou hémisphériques.
- Dimensions, tension d'entraînement et revêtement de surface personnalisables.
Spécifications disponiblesTension d'entraînement : 75 VTension | Dimensions — Longueur × largeur × hauteur | Capacité ±15% | Fréquence | Déplacement nominal ±15% | Force maximale générée
75 V | 3.0 × 3.0 × 18.8 mm | 2.25 µF | 65 kHz | 18.0 µm | 360 N
75 V | 3.0 × 3.0 × 31.0 mm | 3.75 µF | 40 kHz | 30.0 µm | 360 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 10.5 mm | 4.2 µF | 115 kHz | 11.2 µm | 1000 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 18.0 mm | 7.3 µF | 65 kHz | 19.6 µm | 1000 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 23.0 mm | 9.4 µF | 55 kHz | 25.2 µm | 1000 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 39.8 mm | 16.5 µF | 30 kHz | 44.8 µm | 1000 N
75 V | 3.0 × 3.0 × 32.2 mm | 3.75 µF | 40 kHz | 30.0 µm | 360 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 12.6 mm | 4.2 µF | 115 kHz | 11.2 µm | 1000 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 20.1 mm | 7.3 µF | 65 kHz | 19.6 µm | 1000 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 25.1 mm | 9.4 µF | 55 kHz | 25.2 µm | 1000 N
75 V | 5.0 × 5.0 × 41.9 mm | 16.5 µF | 30 kHz | 44.8 µm | 1000 N
Tension d'entraînement : 100 VTension | Dimensions — Longueur × largeur × hauteur | Capacité ±15% | Fréquence | Déplacement nominal ±15% | Force maximale générée
100 V | 2.0 × 2.0 × 10.9 mm | 240 nF | 115 kHz | 9.5 µm | 160 N
100 V | 3.0 × 3.0 × 10.9 mm | 620 nF | 115 kHz | 10.5 µm | 360 N
100 V | 3.0 × 3.0 × 20.9 mm | 1.25 µF | 60 kHz | 21.0 µm | 360 N
100 V | 3.0 × 3.0 × 31.0 mm | 1.85 µF | 40 kHz | 31.5 µm | 360 N
100 V | 2.0 × 2.0 × 11.5 mm | 240 nF | 115 kHz | 9.5 µm | 160 N
100 V | 3.0 × 3.0 × 12.0 mm | 620 nF | 115 kHz | 10.5 µm | 360 N
100 V | 3.0 × 3.0 × 22.1 mm | 1250 nF | 60 kHz | 21.0 µm | 360 N
100 V | 3.0 × 3.0 × 32.2 mm | 1850 nF | 40 kHz | 31.5 µm | 360 N
Tension d'entraînement : 120 VTension | Dimensions — Longueur × largeur × hauteur | Capacité ±15% | Fréquence | Déplacement nominal ±15% | Force maximale générée
120 V | 7.0 × 7.0 × 36.0 mm | 7.2 µF | 35 kHz | 38.0 µm | 1960 N
Tension d'entraînement : 150 VTension | Dimensions — Longueur × largeur × hauteur | Capacité ±15% | Fréquence | Déplacement nominal ±15% | Force maximale générée
150 V | 2.0 × 2.0 × 10.9 mm | 110 nF | 115 kHz | 9.5 µm | 160 N
150 V | 2.5 × 2.5 × 5.0 mm | 100 nF | 250 kHz | 5.2 µm | 250 N
150 V | 2.5 × 2.5 × 10.0 mm | 175 nF | 130 kHz | 9.2 µm | 250 N
150 V | 2.5 × 2.5 × 19.4 mm | 360 nF | 68 kHz | 19.0 µm | 250 N
150 V | 3.0 × 3.0 × 5.0 mm | 130 nF | 265 kHz | 4.8 µm | 360 N
150 V | 3.0 × 3.0 × 7.0 mm | 180 nF | 192 kHz | 6.8 µm | 360 N
150 V | 3.0 × 3.0 × 9.0 mm | 250 nF | 140 kHz | 9.5 µm | 360 N
150 V | 3.0 × 3.0 × 10.0 mm | 275 nF | 132 kHz | 11.0 µm | 360 N
150 V | 3.0 × 3.0 × 18.8 mm | 530 nF | 65 kHz | 19.8 µm | 360 N
150 V | 3.0 × 3.0 × 31.0 mm | 930 nF | 40 kHz | 33.0 µm | 360 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 9.0 mm | 650 nF | 140 kHz | 9.5 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 10.0 mm | 800 nF | 126 kHz | 10.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 12.0 mm | 850 nF | 105 kHz | 12.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 18.0 mm | 1.5 µF | 70 kHz | 20.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 20.0 mm | 1.6 µF | 65 kHz | 21.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 36.0 mm | 3.0 µF | 34 kHz | 40.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 38.0 mm | 3.3 µF | 34 kHz | 40.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 40.0 mm | 3.2 µF | 32 kHz | 43.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 48.0 mm | 4.2 µF | 26 kHz | 50.0 µm | 1000 N
150 V | 5.0 × 5.0 × 50.0 mm | 4.1 µF | 25 kHz | 55.0 µm | 1000 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 9.0 mm | 1.4 µF | 130 kHz | 8.5 µm | 1960 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 18.0 mm | 2.9 µF | 70 kHz | 19.0 µm | 1960 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 20.0 mm | 3.2 µF | 62 kHz | 21.0 µm | 1960 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 30.0 mm | 4.6 µF | 42 kHz | 32.0 µm | 1960 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 36.0 mm | 6.0 µF | 35 kHz | 38.0 µm | 1960 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 45.0 mm | 7.2 µF | 27 kHz | 50.0 µm | 1960 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 50.0 mm | 8.5 µF | 24 kHz | 55.0 µm | 1960 N
150 V | 7.0 × 7.0 × 90.0 mm | 15.5 µF | 14 kHz | 100.0 µm | 1960 N
150 V | 10.0 × 10.0 × 18.0 mm | 6.0 µF | 65 kHz | 20.0 µm | 4000 N
150 V | 10.0 × 10.0 × 36.0 mm | 13.0 µF | 34 kHz | 40.0 µm | 4000 N
150 V | 10.0 × 10.0 × 45.0 mm | 15.0 µF | 15 kHz | 50.0 µm | 4000 N
Utilisation et sélection- Chaque ligne correspond à une configuration. Choisissez tension, déplacement, fréquence et force de façon cohérente.
- Le déplacement réel dépend de la tension d'entraînement, de la charge et du montage. Éviter les chocs, la flexion et les contraintes concentrées lors de l'assemblage.
- Pour le vide ou environnements spéciaux, vérifier l'adéquation des fils, du collage et de l'encapsulation.
- Appliquer les charges selon l'axe, éviter les charges excentriques et les efforts de cisaillement. Adapter le chapeau d'extrémité à la disposition du contact.
Caractéristiques / spécifications techniques- Modèle : BBPXMS-PL (actionneur piézoélectrique empilé multicouche carré)
- Tensions d'entraînement disponibles : 75 V, 100 V, 120 V, 150 V
- Plage d'exemples de dimensions : de 2.0 × 2.0 × ~5.0 mm à 10.0 × 10.0 × 93.5 mm (configurations listées)
- Plage de capacité (exemples) : ~100 nF à ~16 µF selon la configuration
- Plage de fréquence (exemples) : ~14 kHz à ~265 kHz selon la configuration
- Plage de déplacement nominal (exemples) : ~4.8 µm à 100.0 µm (±15%) selon la configuration
- Force maximale générée : configurations de 160 N à 4000 N (selon la taille/série)
- Construction : plaquettes céramiques multicouches empilées axialement, collage époxy
- Isolation/enveloppe : isolation côté céramique et ruban Kapton®
- Options de chapeaux d'extrémité : plats ou hémisphériques
- Longueur de fils standard : env. 75 mm (fils, revêtements, dimensions personnalisables)