Four d'oxydation VF-1000

de type armoireélectriquede laboratoire

Ce petit four vertical de type production pour les expériences et la recherche (R&D) permet d'obtenir un traitement de haute qualité. Ce four est compact et ne nécessite qu'une petite surface d'installation, mais il est utilisable pour une large gamme de diamètres de plaquettes et présente les mêmes caractéristiques de température que celles des fours de production de masse. Caractéristiques Traitement haute performance pour la R&D Traitement par lots de 25 plaquettes au maximum taille des plaquettes disponible de 2 à 8 pouces et 300 mm Équipé d'un chauffage LGO pour atteindre les mêmes performances à haute température que les équipements de production de masse Équipé d'un système de contrôle simple à fonction limitée Ce four vertical pour l'expérimentation, la recherche (R&D) et la petite production peut être utilisé pour une large gamme de tailles de plaquettes allant de 2 à 8 pouces et jusqu'à 300 mm, et la taille du mini lot peut également être choisie jusqu'à 25 plaquettes. Étant donné que l'élément chauffant peut être choisi parmi un élément chauffant LGO et divers autres éléments chauffants, le développement du processus est disponible avec la même structure d'ouverture du four et les mêmes performances de l'élément chauffant que celles des fours de production de masse. Ce four peut être utilisé pour divers traitements de plaquettes de silicium (LPCVD, oxydation et diffusion), l'oxynitruration de la grille de silicium et le recuit d'activation pour le développement de dispositifs de puissance (Si et SiC), ainsi qu'une large gamme d'autres processus.