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Système d'enduction par pulvérisation cathodique NACRE
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Caractéristiques
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- par pulvérisation cathodique
Description
Présentation
Systèmes de revêtement nanocomposite combinant le co-dépôt de nanoparticules dans une matrice PVD pour un intégration contrôlée et des propriétés de surface fonctionnelles. Configurations industrielles sur mesure pour la recherche et la production.
Modèle
Machine NACRE
Caractéristiques principales
Documentation
Documentation produit (PDF) disponible au téléchargement.
Caractéristiques techniques
Systèmes de revêtement nanocomposite combinant le co-dépôt de nanoparticules dans une matrice PVD pour un intégration contrôlée et des propriétés de surface fonctionnelles. Configurations industrielles sur mesure pour la recherche et la production.
Modèle
Machine NACRE
Caractéristiques principales
- Magnétron sputtering : 1 à 3 magnétrons
- Jet de nanoparticules par lentilles aérodynamiques : 1 à 3 lentilles
- Porte-substrat : rotation ou mouvement planétaire
- Applications cibles : photocatalyse, photovoltaïque, technologies quantiques
Documentation
Documentation produit (PDF) disponible au téléchargement.
Caractéristiques techniques
- Co-dépôt de nanoparticules dans une matrice PVD
- Configuration de sputtering par magnétron : 1–3 magnétrons
- Injection nanoparticulaire par lentilles aérodynamiques : 1–3 lentilles
- Gestion des substrats : rotation ou mouvement planétaire
- Applications cibles : photocatalyse, photovoltaïque, technologies quantiques
- Solutions industrielles et configurations machine personnalisées possibles
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.