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Machine de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétron PEROvappar évaporation thermiqueassisté par faisceau d'ionsde couches minces
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Caractéristiques
- Technologie
- par pulvérisation cathodique à magnétron, par évaporation thermique, assisté par faisceau d'ions
- Type de dépôt
- de couches minces
- Autres caractéristiques
- sous vide
- Applications
- pour l'industrie de la microélectronique, pour applications photovoltaïques
Description
Spécialement conçu pour les pérovskites
• Outil idéal pour une R&D efficace
• Conception spéciale du système
• Source de précurseur spéciale
• Haute stabilité à basse température
• Process de déposition stable et défini
• Conditions de vide poussé
• Faible contamination croisée
• Haute répétabilité
• Compatibilité des matériaux pour une très longue durée de vie
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.