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Machine de dépôt PVD MINIPEROvap
par pulvérisation cathodique à magnétronpar évaporation thermiqueassisté par faisceau d'ions

machine de dépôt PVD
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Caractéristiques

Méthode
PVD
Technologie
par pulvérisation cathodique à magnétron, par évaporation thermique, assisté par faisceau d'ions
Type de dépôt
de couches minces
Autres caractéristiques
sous vide
Applications
pour l'industrie de la microélectronique, pour applications photovoltaïques

Description

Mini chambre PVD 100% dédiée aux pérovskites • Peut être intégrée dans les boîtes à gants MBRAUN existantes (via une antichambre) • Design compact • Pour des substrats jusqu'à 50x50 mm • Jusqu'à 4 sources • Uniformité de la couche < +/-5 %. • Solution économique • Délai de livraison court • Installation facile dans les boîtes à gants existantes
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.