Four de frittage
de traitement thermiqueà chambreélectrique

four de frittage
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Caractéristiques

Fonction
de frittage, de traitement thermique
Configuration
à chambre
Source de chaleur
électrique
Atmosphère
sous gaz inerte, sous vide poussé, sous atmosphère contrôlée, sous vide
Autres caractéristiques
pour l'industrie de la céramique, pour l'industrie électronique, de laboratoire, pour applications aéronautiques, pour métallurgie, pour métaux précieux
Température max.

Min: 0 °C
(32 °F)

Max: 2 300 °C
(4 172 °F)

Description

Notre four de frittage à chargement par le fond est conçu pour le frittage à haute température de composants électroniques. Les cycles consistent en la préparation de l'atmosphère, le chauffage, le refroidissement forcé et l'oxydation contrôlée. Ce four a une zone utilisable de 12" de diamètre x 22" de haut (305mm x 559 mm), et convient pour le traitement de gros lots. Ce four comporte deux chambres, une chambre inférieure pour le chargement et le déchargement, le refroidissement et l'oxydation contrôlée, et une chambre supérieure pour le frittage à haute température. Les atmosphères des deux chambres sont isolées, un élévateur électrique déplace la pile de charge de la chambre inférieure vers la chambre de chauffage. La zone chaude est capable de températures jusqu'à 2100°C avec des zones chaudes au tantale ou au tungstène. Un système de pompage de diffusion à haut débit 10″ ou 16″ gère le dégazage de la charge généralement observé lors de l'échauffement du produit. Une interface IHM personnalisée intuitive exécute des cycles entièrement automatisés du début à la fin.

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Catalogues

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.