Fours de traitement thermique PVA TePla

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four à cornue rotativeCOV

de traitement thermique de frittage de brasage dur

four à cornue rotative

COV

Température max.: 0 °C - 2 200 °C
Capacité: 4,5, 9,5, 180, 4 400, 2 250 l

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four à cornue rotativeIOV

de traitement thermique de frittage à induction

four à cornue rotative

IOV

Température max.: 1 600 °C - 2 200 °C
Capacité: 34 l - 338 l

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four à clocheVSG

de traitement thermique de fusion à induction

four à cloche

VSG

Température max.: 2 °C - 2 000 °C
Capacité: 0,1 l - 60 l

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four à cornue rotativeSSH Smart Sinter HIP

de frittage électrique sous vide

four à cornue rotative

SSH Smart Sinter HIP

Température max.: 1 600 °C
Capacité: 400 l

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four à chambrePulsPlasma®

de nitruration ionique

four à chambre

PulsPlasma®

Température max.: 600 °C

... gaz de traitement respectueux de l'environnement (procédé sous vide), l'absence de produits de réaction nocifs pour l'environnement et le maintien de faibles émissions font de la nitruration PulsPlasma® (PPN) un procédé ...

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four à clochebaSiC-T

de sublimation de croissance cristalline à gaz

four à cloche

baSiC-T

Température max.: 2 600 °C

... du système baSiC-T est basée sur un concept modulaire et permet l'utilisation de substrats (semences) jusqu'à 6´´ diamètre. Four de croissance à cristaux SiC PVT de nouvelle génération de SiC PVT Conçu pour les applications ...

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four à clocheSiCube

de sublimation de croissance cristalline à gaz

four à cloche

SiCube

Température max.: 2 600 °C

... HTCVD a été spécialement conçu pour la croissance cristalline du carbure de silicium (SiC) par sublimation / décomposition thermique (pyrolyse) des gaz sources à haute température. Grâce à la capacité de vide élevé, il ...

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