Débitmètres pour gaz HORIBA

Débit volumique: 0 l/min - 0,1 l/min
Température de process: 0 °C - 80 °C
Pression de process: 1,1 bar - 3,5 bar

... Les processus critiques de fabrication des semi-conducteurs exigent en permanence des dispositifs de contrôle de flux de gaz de précision qui permettent à la fois l'innovation future et la transition du laboratoire à l'usine pour les ...

Température de process: 0 °C - 80 °C
Pression de process: 0,13 bar - 4 bar
Répétabilité: 0,01 % - 0,3 %

... 0,1 % de la plage de pleine échelle, ce qui aide les utilisateurs à optimiser la flexibilité du système de distribution de gaz. Par exemple, si le système installe plusieurs MFC pour le contrôle des débits élevés et faibles, les utilisateurs ...

Température de process: 0 °C - 80 °C
Pression de process: 3,5 bar - 7,5 bar
Répétabilité: 0,03 % - 0,3 %

... performante permet de simplifier le système d'alimentation en gaz Solution multi-gammes, multi- gaz et multi-pressions Les nouvelles fonctions permettent à l'utilisateur de modifier le type de gaz, le ...

Température de process: 15 °C - 45 °C
Pression de process: 2,4 bar - 4,12 bar

... débit de haute précision jusqu'à 0,025SCCM. Capacité de contrôle du débit jusqu'à 0,025SCCM Contrôle précis du gaz d'accord, amélioration de l'accordabilité du processus réponse à l'accélération ≤ 100ms et contrôle de ...

Température de process: 15 °C - 60 °C
Pression de process: 2,4 bar - 3,5 bar

... d'un algorithme breveté de contrôle de débit avancé avec une structure à double valve qui permet au système d'alimentation en gaz du client de résoudre de multiples problèmes. temps de stabilisation rapide ≤ 100 msec dans tous les cas ...

Débit volumique: 0,1, 0,3 l/min
Pression de process: 0,5 bar - 4 bar
Répétabilité: 0,15, 0,01 %

... coût, la taille et la complexité des systèmes de distribution de gaz. Une nouvelle fonction haute performance permet de simplifier le système d'alimentation en gaz. Les conduites de gaz à chambres multiples ...

... de 10 mm. Le DZ-107 augmente également la température maximale de fonctionnement de 45°C à 60°C pour prendre en charge les gaz utilisés dans les processus de fabrication de précision des semi-conducteurs de pointe. Ces améliorations ...