Système de lithographie à faisceau électronique JBX-3050MV
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Caractéristiques
- Type
- à faisceau électronique
Description
Le JBX-3050MV est un système de lithographie par faisceau d'électrons à forme variable destiné à la fabrication de masques pour les nœuds de 45 nm à 32 nm. Sa technologie de pointe permet d'atteindre une vitesse élevée, une grande précision et une grande fiabilité. Ce système EB utilise un faisceau d'électrons de 50 kV à forme variable et une platine à répétition.
Caractéristiques
Le JBX-3050MV est un système de lithographie par faisceau d'électrons pour la fabrication de masques/réticules qui répond à la règle de conception de 45 à 32 nm. Ce système permet l'écriture de motifs à grande vitesse, avec une grande précision et une grande fiabilité, grâce à une technologie haut de gamme.
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