Système de lithographie à faisceau électronique JBX-3200MV

Le JBX-3200MV est un système de lithographie par faisceau d'électrons à forme variable destiné à la fabrication de masques pour les nœuds de 28 nm à 22/20 nm. Sa technologie de pointe permet d'atteindre une vitesse élevée, une grande précision et une grande fiabilité. Ce système EB utilise un faisceau d'électrons de 50 kV à forme variable et une platine d'échantillons à répétition. Caractéristiques Utilisant les avantages de la méthode d'écriture par étapes et répétitions, ce système EB combine diverses fonctions telles que la fonction de modulation de la dose d'écriture et la fonction d'écriture par recouvrement, ce qui permet de prendre en charge les corrections polyvalentes requises pour le modelage des masques et des réticules de la prochaine génération. Ateliers de masques captifs et ateliers de masques marchands au Japon et à l'étranger (Les noms des clients ne sont pas divulgués)