Système de lithographie e-beam JBX-8100FS

laser

Le système de lithographie par faisceau d'électrons de type ponctuel JBX-8100FS offre un débit élevé, un faible encombrement et une faible consommation d'énergie. Caractéristiques Faible encombrement La surface requise pour le système standard est de 4,9 m (L) x 3,7 m (P) x 2,6 m (H), ce qui est beaucoup plus petit que les systèmes conventionnels. Faible consommation d'énergie La puissance nécessaire pour un fonctionnement normal est d'environ 3 kVA, soit 1/3 des systèmes conventionnels. Rendement élevé Le système dispose de deux modes d'exposition, le mode haute résolution et le mode haut débit, qui permettent de réaliser différents types de motifs, depuis le traitement ultrafin jusqu'à la production de petite et moyenne taille. Il a minimisé le temps d'inactivité pendant l'exposition tout en augmentant la vitesse maximale de balayage de 1,25 à 2,5 fois pour atteindre 125 MHz (le niveau le plus élevé au monde) pour l'écriture à grande vitesse. Version Le JBX-8100FS est disponible en 2 versions : G1 (modèle d'entrée de gamme) et G2 (modèle toutes options). Des accessoires optionnels peuvent être ajoutés au modèle G1 selon les besoins. Nouvelles fonctions Un microscope optique est disponible en option pour permettre l'examen des motifs sur l'échantillon sans exposer la résistance à la lumière. Une tour de signalisation est fournie en standard pour le contrôle visuel du fonctionnement du système. Résolution du positionnement laser Les positions de la platine sont mesurées et contrôlées par pas de 0,6 nm en standard, et par pas de 0,15 nm avec une mise à niveau en option. Contrôle du système Le système d'exploitation polyvalent Linux®, associé à une nouvelle interface utilisateur graphique, facilite l'utilisation de l'appareil. Le programme de préparation des données est compatible avec Linux® et Windows®.