Sonde ionique focalisée MI4050

Le système à faisceau d'ions focalisé haute performance MI4050 est équipé de nouvelles optiques et offre la meilleure résolution d'imagerie SIM au monde et une préparation d'échantillons TEM haute définition avec une résolution d'imagerie améliorée à faible kV. Le MI4050 s'adapte à une variété d'applications telles que l'observation de coupes transversales, la modification de circuits, le traitement par balayage vectoriel, le modelage nanométrique, le moulage nanométrique et la fabrication nanométrique en 3D à l'aide de la fonction de dépôt. Temps de traitement considérablement réduit grâce au courant de sonde élevé (courant de sonde maximal de 90 nA) Traitement en coupe transversale du collage de fils (taille de traitement : L : 95 µm, P : 55 µm ; durée d'usinage : 20 min) Préparation d'échantillons TEM très peu endommagés par traitement à faible kV (0,5 kV ou plus) et résolution améliorée de l'image des électrons secondaires à faible kV *Moins de 1 kV en option Platine mécanique eucentrique motorisée à 5 axes de haute précision La platine eucentrique permet à l'utilisateur de spécifier les coordonnées avec plus de précision afin d'obtenir un alignement plus fin pour l'imagerie et la préparation d'échantillons TEM en traitement continu.