SEM d'examen en ligne qui contribue à l'amélioration du rendement grâce à un ADR à grande vitesse et à un ADC précis
- Résolution d'image SEM améliorée pour le développement de dispositifs de pointe et la production de masse
- Nouvelle solution in situ de contrôle du rendement qui quantifie et indique les propriétés électriques (R/C) dans le processus de fabrication des semi-conducteurs
- Productivité améliorée qui a permis de multiplier par deux le rendement par rapport au modèle précédent
- Contribuer au développement des dispositifs de la génération N3 grâce à une fonction avancée d'examen et d'analyse des défauts pour les plaquettes non tracées
- Amélioration remarquable des performances et de la précision de la classification des défauts grâce à l'adoption d'une classification automatique des défauts basée sur l'intelligence artificielle
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