Système de mesure de biréfringence Exicor® DUV series

l'Exicor® DUV et 193 systèmes de DUV mesurent la biréfringence aux longueurs d'onde ultra-violettes profondes. Le 2003 « la récompense de la R&D 100 » gagnant le système d'Exicor DUV a été développée pour évaluer la biréfringence intrinsèque en matériaux d'objectif du fluorure de calcium (CaF2) à la longueur d'onde d'application de 157 nanomètre. l'Exicor suivant 193 foyers de DUV sur une variété de matières employées dans 193 systèmes lithographiques de nanomètre, particulièrement immersion 193 systèmes de lithographie de nanomètre qui exigent le systeme optique le plus de haute qualité. Tous les deux systèmes satisfont la mesure à la longueur d'onde du principe d'utilisation exigée par les fabricants optiques de matériaux de précision qui poussent l'enveloppe de technologie. Les systèmes DUV et 193DUV d'Exicor sont les systèmes primaires employés par le principal industryoptics de lithographie fabrique pour mesurer la biréfringence dans des matériaux de blanc d'objectif et des blancs de photo-mask aux longueurs d'onde lithographiques de DUV (157 nanomètre, 193 nanomètre, 248 nanomètre). Ces systèmes sont établis avec une armature robuste et des composants résistants de commande de mouvement pour le systeme optique de mesure X.400 millimètre de jusqu'à 400 millimètres et 200+ millimètre profondément. Le système d'Exicor DUV utilise également un système localisé unique de déplacement de l'oxygène dans la chambre témoin parce que la lumière UV de 157 nanomètres est absorbée par des molécules de l'oxygène. Cet environnement purgé par azote sec propre empêche également la génération de l'ozone dans la chambre témoin de DUV. La purge n'est pas exigée pour 193 248 de nanomètre mesures de nanomètre et. La grande étape de balayage de ces systèmes tient compte également pièces multiples de chargement de plus petites sur l'étape, avec le logiciel facultatif d'Exicor Macro+ exécutant des routines automatisées pour balayer chaque partie individuellement.