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Machine de dépôt ALD AlOxsolaire
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Caractéristiques
- Méthode
- ALD
- Applications
- solaire
Description
Cet équipement augmente l'efficacité en déposant une fine couche d'Al2O3 sur la surface avant de la plaquette d'une cellule solaire cristalline par dépôt thermique par couche atomique (ALD) pour former une couche de passivation.
Spécifications
Haut débit : 12 800 plaquettes/heure (1 600 plaquettes/bateau)
Durée du cycle : 30 minutes
Temps de disponibilité : 97%
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Catalogues
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.