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Système de dépôt T-aSi (Oxidation + a-Si)

Système de dépôt - T-aSi (Oxidation + a-Si) - HANWHA MACHINERY
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Description

Ce système est utilisé pour le dépôt in situ d'oxyde et de poly pour la cellule TOPCon qui permet la capture sélective d'électrons en améliorant son taux de recombinaison. Spécifications Haut débit : 4 702 plaquettes/heure (640 plaquettes/bateau) Durée du cycle : 49 minutes Temps de disponibilité : 97%

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Ceci est une traduction automatique  (voir l’original en anglais)

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.