Machine de dépôt PVD HD800

Vue d'ensemble du produit
Le HD800 est l'équipement de dépôt PVD hybride nouvelle génération de Huasheng, conçu pour les fabricants d'outils coupants et les utilisateurs industriels qui exigent une qualité de revêtement stable, une capacité de lot accrue et une grande flexibilité de développement de procédés. Basé sur la plateforme technologique composite de Huasheng, le HD800 intègre arc ion plating, sputtering magnétron DC et HiPIMS dans un seul système pour produire des revêtements denses, fortement adhérents et à faible projection sur des matériaux difficiles à usiner tels que l'acier inoxydable, les alliages de titane, les aciers trempés et fortement alliés.

Avantages clés

• Adhérence élevée du revêtement : l'arc ion plating associé à l'ioniseur latéral et à l'attaque par filament chaud améliore la liaison film-substrat pour les outils coupants et les pièces d'usure.
• Surface de revêtement lisse : HiPIMS et sputtering magnétron réduisent les projections et produisent des surfaces plus propres et plus lisses.
• Densité de revêtement élevée : le procédé de dépôt hybride favorise une microstructure dense et une meilleure résistance à l'usure.
• Flexibilité de développement des procédés : prise en charge des modes arc, magnétron DC (MS), HiPIMS MS, dépôts composites et méthodes mixtes sur une même plateforme pour production et R&D.

Applications

• Production et développement de revêtements pour outils coupants, plaquettes CNC, forets, fraises, tarauds, pièces de moule et composants résistants à l'usure.

Caractéristiques HD800

• Volume de chambre : 1 m³
• Capacité de chargement : 10 arbres par lot
• Zone effective de revêtement : Φ650 × 400 mm
• Capacité hybride Arc + HiPIMS
• Ioniseur latéral et attaque par filament chaud
• Conçu pour un fonctionnement industriel stable, production et R&D de procédés

Caractéristiques / Spécifications techniques

• Réf. modèle : HD800
• Technologie de revêtement : plateforme composite hybride (arc ion plating, sputtering magnétron DC, HiPIMS)
• Gravure/attaque : Ioniseur latéral / filament chaud
• Sources multi-arc : 6
• Cathodes magnétron : 1
• Dimensions équipement : L3750 × W2400 × H2500 mm
• Température de travail maximale : 600°C
• Capacité de chargement : 10 arbres par lot
• Charge plaquettes : ~12 000 pcs (ex. : plaquettes APMT1135)
• Charge forets : ~3 600 pcs (ex. : forets D4 × 50L)
• Poids max. de chargement : 300 kg
• Diamètre d'arbre : Φ130
• Zone effective de revêtement : Φ650 × 400 mm
• Temps de processus (ex.) : AlTiN : 6–8 h