Machine de dépôt PVD HD500

Présentation
Le HD500 repose sur une plateforme de technologie de dépôt composite intégrant pulvérisation magnétron à haute ionisation (HiPIMS) et dépôt par arc multi-arc dans un même processus. Il produit des couches polyvalentes adaptées aux matériaux difficiles à revêtir, tels que l'acier inoxydable et les alliages de titane, contribuant à prolonger la durée de vie des composants. Le système convient à la production à petite échelle et à la R&D procédés.

Avantages clés

• Gravure latérale par source ionique à filament chaud : assure une gravure latérale uniforme, un surplomb maîtrisé et une maintenance simplifiée.
• Pulvérisation magnétron HiPIMS composite : cathodes DC + HiPIMS offrant des vitesses de dépôt élevées tout en fournissant l'énergie ionique requise pour les éléments réfractaires (Nb, B, C, W, V) et une large gamme de matériaux.
• Source multi-arc optimisée plasma : trois groupes de six cibles circulaires multi-arc avec allumage d'arc dissimulé pour une exploitation fiable et un entretien aisé ; permet le dépôt multi-élément et multi-couche avec surface de film lisse et forte utilisation des cibles.
• Plateformes de dépôt multiples sur un seul châssis : DC MS + HiPIMS MS + dépôt ionique multi-arc autorisent des procédés de revêtement simples, composites et mixtes dans le même lot.

Paramètres du produit
Nom : HD500
Technologie de dépôt : Technologie de dépôt composite (pulvérisation à haute ionisation + composite arc)
Gravure : Source ionique latérale (filament chaud)
Sources multi-arc (nombre) : 6
Cathodes magnétron (nombre) : 1
Dimensions équipement (mm) : 3400 × 1600 × 2600
Volume chambre (m³) : 0.7
Zone de revêtement effective (mm) : Φ410 × 400
Température de travail max (°C) : 700
Capacité de chargement (nombre d'arbres) : 5
Chargement lames (APMT1135) : 6000 pcs
Capacité lames tiges (D4*50L) : 1800 pcs
Poids max chargé (kg) : 300
Diamètre arbre : Φ130
Temps de procédé (AlTiN) : 6-8 h

Caractéristiques techniques

• Modèle / Série : HD500 (série HD)
• Technologie de dépôt : Pulvérisation composite à haute ionisation + arc
• Méthode de gravure : Source ionique latérale (filament chaud)
• Sources multi-arc : 6 (3 groupes de 6 cibles circulaires)
• Cathodes magnétron : 1
• Dimensions équipement : 3400 mm × 1600 mm × 2600 mm
• Volume chambre : 0.7 m³
• Zone de revêtement effective : Φ410 × 400 mm
• Température de travail max : 700 °C
• Capacité de chargement : 5 arbres
• Chargement lames (APMT1135) : 6000 pcs
• Capacité lames tiges (D4*50L) : 1800 pcs
• Poids max chargé : 300 kg
• Diamètre arbre : Φ130
• Temps de procédé typique (AlTiN) : 6-8 h