Machine de dépôt CVD Voyager PIB-CVD

par pulvérisation cathodiquede couches mincesoptique

Le Voyager PIB-CVD est un système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par faisceau d'ions plasma (PIB-CVD) construit autour de la source d'ions RF Endeavor sans filament. Cette source d'ions brevetée, de par sa conception, permet un contrôle indépendant à la fois de la densité du courant ionique et de l'énergie ionique sur une large gamme, capable de produire des revêtements multicouches à taux de déposition élevé. Elle est capable de déposer des revêtements de haute qualité et à haut débit à basse température (moins de 100°C), ce qui la rend compatible avec les substrats plastiques typiques tels que le polycarbonate (PC) et le polyméthacrylate de méthyle (PMMA). Le système Voyager PIB-CVD a été conçu en mettant l'accent sur le nanocomposite de type diamant (DLN) afin d'offrir la meilleure flexibilité de sa catégorie pour le revêtement de pièces planes (ex. : tranches de silicium) et tridimensionnelles (ex. : lentilles optiques). Le système est configuré avec le système de contrôle Process Pro de Denton, permettant un contrôle automatisé et manuel du processus. En outre, il existe une configuration de chambre propriétaire en option permettant la co-pulvérisation pendant le dépôt DLN pour les films DLN (Me-DLN). Cette configuration est unique dans l'industrie et offre la possibilité de développer de nouveaux films DLN aux propriétés mécaniques, électriques et tribologiques personnalisables. La plateforme Voyager PIB-CVD permet d'obtenir des films nanocomposites de type diamant (DLN) pour : Des écrans flexibles et résistants aux rayures Revêtements d'usure pour les produits médicaux et commerciaux Films de protection transparents aux IR Revêtements hydrophobes