Machine de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétron DEIMOS 5500

pour miroir

Présentation
Le DEIMOS 5500 est un appareil de dépôt sous vide pour optique de précision, basé sur la pulvérisation magnétron, conçu pour appliquer des couches protectrices et d'amélioration en aluminium ou argent sur de grands miroirs astronomiques, offrant un fort pouvoir réflecteur, une grande uniformité et une bonne durabilité des couches.

Avantages clés

• Uniformité de dépôt élevée — inclinaison et distance des cibles réglables électriquement pour adapter le procédé aux substrats courbes et obtenir des couches Al/Ag protégées ou améliorées uniformes.
• Manipulation rapide des substrates — système de rails permettant de déplacer la moitié inférieure de la chambre hors du châssis pour un accès complet et un échange de substrat rapide.
• Modes d'alimentation flexibles — quatre cibles de sputtering avec options d'alimentation DC pulsée ou DC selon les besoins du procédé.

Caractéristiques principales

• Inclinaison de cathode mobile — chaque cible peut être déplacée et inclinée; des actionneurs électriques assurent des positions reproductibles et les réglages peuvent être sauvegardés dans les recettes de production.
• Pré-nettoyage par décharge MF ou DC — unités de décharge intégrées pour un nettoyage contrôlé de la chambre et l'élimination de l'humidité; cycles enregistrables en recette.
• Conception accessible — la moitié inférieure de la chambre sur rails facilite l'accès aux substrats, cibles et composants, notamment pour de grands diamètres (jusqu'à 4,5 m), simplifiant l'exploitation et la maintenance.

Applications
Conçu pour le dépôt sur miroirs astronomiques et autres miroirs optiques de précision de grandes dimensions, avec des couches d'aluminium ou d'argent protégées ou améliorées où réflectance, uniformité et durabilité sont indispensables.

Caractéristiques / spécifications techniques

• Modèle : DEIMOS 5500
• Procédé : pulvérisation magnétron / dépôt sous vide pour optique de précision
• Matériaux de dépôt : aluminium (Al) et argent (Ag) — couches protégées et améliorées
• Nombre de cibles : 4
• Options d'alimentation : DC pulsée ou DC
• Réglage des cibles : inclinaison et distance cibles-substrat ajustables électriquement; positions enregistrables en recettes
• Pré-nettoyage : unités de décharge MF ou DC intégrées pour élimination d'humidité et nettoyage; cycles enregistrables
• Manutention des substrats : moitié inférieure de la chambre sur rails pour accès complet et échange rapide
• Diamètre maximum de substrat pris en charge : jusqu'à 4,5 m
• Usage prévu : miroirs astronomiques et optique de précision nécessitant forte réflectance, uniformité et durabilité des couches
• Exploitation & maintenance : accès facilité aux cibles, substrats et composants pour maintenance simplifiée et répétabilité via recettes