Machine d'évaporation sous vide antireflet DLC 600

Présentation
Le LEYBOLD OPTICS DLC 600 est un installateur sous vide de précision utilisant la déposition chimique en phase vapeur assistée par plasma (PECVD) pour déposer des couches de carbone type diamant (DLC) destinées aux composants optiques et d'imagerie thermique. Il est conçu pour produire des couches DLC dures, uniformes et résistantes aux conditions environnementales, optimisées pour les applications anti-reflets IR sur substrats Ge et Si.

Avantages clés

• Compatibilité étendue des substrats : Le maintien par gravité permet de traiter des formes et géométries variées jusqu'à 300 mm de diamètre et environ 30–40 mm de hauteur.
• Performance IR ciblée : Les paramètres de procédé et matériaux sont adaptés aux substrats Ge et Si pour améliorer la transmitance IR et assurer des performances anti-reflets constantes.
• Couches DLC de protection durables : Le système dépose des films DLC extrêmement durs et uniformes, à haute résistance environnementale, pour protéger les surfaces optiques exposées.

Caractéristiques principales
Chambre de process et distribution des gaz — uniformité de référence : Le design de la 'gas shower' du DLC 600 assure une distribution très uniforme des gaz de procédé dans la chambre, garantissant une croissance de film homogène et un contrôle serré de l'épaisseur sur l'ensemble de la surface, indispensable pour les applications IR et basse lumière (vision nocturne, capteurs de distance).

Contrôle optique in situ — reproductibilité des empilements de couches : Le système de monitoring optique OMS 5100 intégré contrôle la croissance des films en temps réel, assurant le respect des tolérances d'épaisseur et une grande répétabilité afin que les empilements conçus correspondent au produit fini.

Caractéristiques / spécifications techniques

• Technologie de dépôt : plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) pour couches DLC.
• Type de couche : diamond-like carbon (DLC) — dure, uniforme, résistante aux agressions environnementales.
• Substrats supportés : Germanium (Ge) et Silicium (Si), optimisé pour anti-reflet IR.
• Diamètre max. des substrats : jusqu'à 300 mm.
• Hauteur typique des substrats : env. 30–40 mm.
• Tenue des substrats : maintien par gravité pour diverses géométries.
• Contrôle de procédé : OMS 5100 monitoring optique in situ pour contrôle d'épaisseur et reproductibilité.
• Distribution des gaz : gas shower spécifique pour uniformité exceptionnelle.
• Code produit : CUBE-00010-019.

Applications types

• Revêtements antireflets IR pour optiques de précision.
• Couches DLC protectrices pour dispositifs de vision nocturne et systèmes d'imagerie thermique.
• Capteurs et composants en longueur d'onde IR nécessitant des revêtements durables et reproductibles.