Systèmes lasers pour transformation de matière

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système laser continu
système laser continu
YLR-AM

Puissance: 5 000, 1 000 W
Longueur d'onde: 1 070 nm

... indépendant de la puissance et de la fluence, et une performance stable en production.

Deux tailles de spot. Un seul laser.
Le concept dual-mode supprime le besoin d'optique volumineuse mobile pour modifier la taille ...

système laser pulsé
système laser pulsé
NL200

Puissance: 600 W
Longueur d'onde: 213, 266, 355, 532, 1 064 nm

... plus élevée, telles que le traitement des matériaux, la réparation de panneaux d'affichage LCD et OLED, l'ablation, le marquage, la gravure, le nettoyage laser et le dépôt laser. Ce laser ...

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EKSPLA
système laser pulsé
système laser pulsé
NanoFlux SLM

Puissance: 5 000, 6 000, 8 000 W
Longueur d'onde: 266, 355, 532, 1 064 nm

... >Holographie

  • Spectroscopie laser non linéaire
  • Tests optiques


  • Description
    • Conception innovante d'oscillateur maître auto-amorcé et pompé par diode, obtenant une sortie SLM
    ...

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    EKSPLA
    système laser pulsé
    système laser pulsé
    NanoFlux AWG

    Puissance: 6 000, 9 000, 13 000 W
    Longueur d'onde: 355, 532, 1 064 nm

    ... Sapphire

  • Martelage laser – durcissement des matériaux par onde de choc induite par laser
  • Physique des plasmas et des chocs

  • Description
    Le système laser ...

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    EKSPLA
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