Spectromètre de photoélectrons rayons X XPS
de laboratoirepour le traitement de surfacepour spectroscopie

Spectromètre de photoélectrons rayons X - XPS - Shimadzu France - de laboratoire / pour le traitement de surface / pour spectroscopie
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Caractéristiques

Type
de photoélectrons rayons X
Domaine
de laboratoire, pour analyses élémentaires, pour spectroscopie, pour la recherche et développement, de production, pour le traitement de surface
Autres caractéristiques
haute résolution, de grande sensibilité, automatisé

Description

Présentation
La spectroscopie de photoélectrons X (XPS), également appelée ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis), est une technique établie d'analyse de surface pour la caractérisation des matériaux. La XPS fournit des informations quantitatives sur les éléments et leurs états chimiques dans les ~10 nm superficiels d'un matériau. Le spectromètre photoélectrons Kratos AXIS Nova collecte des spectres et des images XPS sur des matériaux stables en ultra‑haut vide.

Performance
Conçu pour une utilisation efficace en laboratoire et en production, l'AXIS Nova intègre un chargement automatisé des échantillons, des caméras orthogonales pour un positionnement rapide et un logiciel d'acquisition intuitif. La platine d'échantillon de 110 mm de diamètre permet la manipulation d'échantillons de grande taille et un haut débit sans compromettre la sensibilité spectroscopique, la résolution énergétique ou les performances d'imagerie spatiale.

Fonctionnalités
  • Sensitivity — Collecte efficace des photoélectrons pour une haute sensibilité en modes spectroscopie et imagerie XPS.
  • Resolution — Excellente résolution énergétique spectroscopique pour mesurer précisément de faibles déplacements chimiques.
  • Simplicity — Utilise le logiciel ESCApe pour acquisition, traitement et reporting, assurant des flux de travail cohérents entre instruments Kratos.
  • Parallel XPS imaging — Permet la cartographie de la distribution élémentaire et chimique à la surface.
  • Automation — Prise en charge de l'automatisation du chargement et de workflows prédéfinis pour augmenter le débit et la répétabilité.
  • Additional Capabilities — Système extensible : option lampe He‑discharge UV pour UPS (bande de valence et fonction de travail) et modules analytiques additionnels.


Applications (exemples)
  • Revêtements et films minces
  • Polymères et traitements de surface
  • Profilage en profondeur par sputtering avec grappes de gaz Arn+ de polymères plasma réticulés
  • Analyse de stents polymères revêtus de médicament
  • Systèmes de films minces combinatoires — analyse par matrice


Caractéristiques / spécifications techniques
  • Technique : Spectroscopie de photoélectrons X (XPS) / ESCA
  • Profondeur d'analyse : informations depuis les ~10 nm supérieurs de la surface
  • Platine d'échantillon : diamètre 110 mm (manipulation d'échantillons de grande taille)
  • Manipulation : chargement automatisé des échantillons
  • Positionnement : caméras orthogonales pour un alignement facile
  • Imagerie : imagerie XPS parallèle à haute résolution spatiale
  • Sensibilité et résolution : haute sensibilité et excellente résolution énergétique
  • Logiciel : ESCApe pour acquisition, traitement et reporting
  • Options : lampe He‑discharge UV pour UPS (bande de valence et fonction de travail)
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.