Spectromètre de photoélectrons rayons X AXIS Supra+

de laboratoirepour l'industrie des semi-conducteurspour spectroscopie

Présentation
Le AXIS Supra+ est un spectromètre d'électrons photoémis par rayons X (XPS) à imagerie, fournissant des informations quantitatives sur les éléments et leurs états chimiques dans les ~10 nm supérieurs de la surface d'un matériau. Également commercialisé sous le nom Kratos Ultra 2 au Japon, l'AXIS Supra+ associe capacités spectroscopiques et d'imagerie parallèle avec un niveau élevé d'automatisation pour répondre aux besoins d'analyse de surface en recherche et en routine sur métaux, semi‑conducteurs et isolants.

Caractéristiques principales

• Sensibilité : Excellente sensibilité en modes spectroscopie et imagerie XPS pour l'analyse de surface et des traces.
• Ergonomie : Le logiciel ESCApe intègre acquisition, traitement et automatisation pour des flux de travail optimisés.
• Imagerie XPS parallèle : Imagerie rapide à haute résolution spatiale pour cartographier la distribution latérale des éléments et des états chimiques.
• Résolution : Résolution spectroscopique et d'imagerie élevée adaptée aux études détaillées de chimie de surface.
• Automatisation : Automatisation étendue des fonctions du spectromètre pour améliorer le débit et la reproductibilité.
• Techniques supplémentaires : Plateforme modulaire configurable avec des options d'analyse et de préparation de surface complémentaires sans dégrader les performances XPS.

Applications

• Analyse des matériaux pour batteries et stockage d'énergie.
• Études liées à la photoélectronique par rayons X durs (HAXPES).
• Caractérisation de revêtements et films minces.
• Profilage en profondeur UPS‑XPS de films OLED et autres couches minces par pulvérisation par grappes d'argon.
• Quantification de la composition des couches dans les semi‑conducteurs composés et les matériaux multicouches.

Documents disponibles (notes d'application sélectionnées)

• Profil de profondeur combiné argon cluster UPS‑XPS d'un film mince OLED (note d'application).
• Quantification de la composition des couches dans les semi‑conducteurs composés (note d'application).
• Élimination du recouvrement ligne cœur/pic Auger en utilisant différentes énergies de photons (note d'application).

Caractéristiques / spécifications techniques

• Marque: Shimadzu
• Modèle: AXIS Supra+
• Autre dénomination: Kratos Ultra 2 (Japon)
• Type: Spectromètre X‑Ray Photoelectron (XPS) à imagerie
• Profondeur d'analyse: environ ~10 nm en surface
• Techniques: XPS en modes spectroscopie et imagerie parallèle; supporte le profilage UPS‑XPS avec pulvérisation par grappes d'argon
• Imagerie: Imagerie XPS parallèle à haute résolution spatiale pour cartographie chimique latérale
• Sensibilité & résolution: Conçu pour une excellente sensibilité et une haute résolution spectroscopique et d'imagerie
• Logiciel: ESCApe pour acquisition, traitement et contrôle de l'automatisation
• Matériaux compatibles: Métaux, semi‑conducteurs, isolants et divers films/revêtements minces
• Modularité: Configurable avec des options supplémentaires d'analyse et de préparation de surface sans compromettre les performances XPS