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Machine de dépôt solaire LP-42 series
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Caractéristiques
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- solaire
Description
· Caractéristiques du procédé à basse pression et à paroi chaude, offrant une meilleure uniformité du film et une bonne densité.
· Procédé LPCVD : les substrats chargés à haute densité n’ont qu’un faible impact sur la vitesse de dépôt, avec une grande capacité de chargement dans un seul tube.
· Davantage de zones de température pour garantir de manière fiable l’uniformité entre les plaquettes.
· Entrée d’air segmentée et réglable indépendamment pour compenser l’effet de diminution du débit d’air.
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.