Machine de dépôt PVD SP seriespar pulvérisation cathodique à magnétronde couches minces de siliciumsous vide
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Caractéristiques
- Méthode
- PVD
- Technologie
- par pulvérisation cathodique à magnétron
- Type de dépôt
- de couches minces de silicium
- Autres caractéristiques
- sous vide, à cathodes rotatives, à cycle court, en ligne, haute précision, optique
- Applications
- pour l'industrie de la microélectronique, pour l'automobile, pour revêtement de verre, pour miroir, pour écrans, pour verre réfléchissant
Description
L'équipement de revêtement AF est équipé d'un dispositif d'évaporation par résistance à haut rendement et d'un dispositif plasma avancé. La combinaison efficace de la technologie de revêtement par évaporation thermique et de la technologie de revêtement par pulvérisation magnétron rend l'équipement applicable à une gamme plus large et permet d'obtenir des revêtements aux propriétés variées. Le revêtement AF peut être ajouté au film décoratif et fonctionnel pour lui donner une variété de couleurs et en même temps des caractéristiques de surface super imperméables, anti-taches d'huile, antibactériennes, anti-empreintes digitales et durables.
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.