Machine de dépôt PVD SP series
par pulvérisation cathodique à magnétronde couches minces de siliciumsous vide

machine de dépôt PVD
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Caractéristiques

Méthode
PVD
Technologie
par pulvérisation cathodique à magnétron
Type de dépôt
de couches minces de silicium
Autres caractéristiques
sous vide, à cathodes rotatives, à cycle court, en ligne, optique
Applications
pour l'industrie de la microélectronique, pour l'automobile, pour revêtement de verre, pour applications photovoltaïques, pour miroir, pour écrans, pour verre réfléchissant, lentille en verre, pour lentilles optiques

Description

Notre technologie de machine de revêtement par pulvérisation magnétron optique dispose d'un système de formation de film stable, et la méthode de contrôle précis qui la soutient a été largement utilisée par les grandes entreprises. Ce type d'équipement est équipé d'un ensemble complet d'équipements chimiques disponibles pour maximiser la productivité et l'efficacité du client. Notre source cible exclusive SI à haute ionisation, permet de compléter la préparation d'un film équilibré à haute réfraction en production. Cette technologie peut produire des films AR+AF et des films optiques et à gradient de couleur. Ce type d'équipement a une forme de formation de film à basse température, qui peut être utilisé pour la production de films de surface de divers produits. L'équipement dispose d'un mode de contrôle de pulvérisation entièrement automatique, surveille en temps réel l'état du film, afin d'obtenir une production stable et par lots.

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.